二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9091401 待售

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ID: 9091401
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
ILD System, 8" Mainframe: Centura 5200 Transfer chamber: Centura 5200 (2) Loadlock chambers: narrow body (4) Process chambers: DxZ Robot: HP+ Loading configuration: narrow body dual auto-indexer loader System controller / AC power box (2) CRT monitors with light pen RF generator rack Heat exchanger: AMAT 0 Chamber A: DxZ Chamber B: DxZ Chamber C: DxZ Chamber D: DxZ Chamber E: MS Cool Gases: TEOS, O2, NF2, N2 Software version: E3.0 208VAC, 3 Phase 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ是一种下一代等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器,设计用于将先进的材料层沉积在用于集成电路(IC)制造的基板上。PECVD工艺是传授厚度均匀且无缺陷的沉积膜的手段。AMAT Centura 5200 DxZ配备了多项功能,可增强性能并实现广泛的流程功能。它有两个腔室,每个腔室都有独立的电源,最多可同时安装两个薄膜。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ还得益于径向温度剖面仪、可变RF偏差和具有多个真空级别的先进泵送系统。反应堆基于高通量、低成本的制造平台,由AMAT专有的Simul-ProcessTM技术增强。该技术结合了实验和数值优化技术,以确保高质量薄膜和最佳沉积速率。Centura 5200 DxZ在广泛的过程中提供一致和可靠的结果,包括低和高k介电沉积、薄膜封装、侧壁剖面分析、源/排水工程以及浅层沟槽隔离。此外,其先进的腔室设计可防止金属污染沉积,并防止颗粒进入真空腔室,否则会对沉积的薄膜造成干扰和缺陷。APPLIED MATERIALS还提供了一系列工艺选项,以及同时执行多个工艺的功能。这些功能使用户能够利用其增强的吞吐量并减少总处理时间。此外,该系统的设计能耗比其前代产品少,使其成为一个对环境负责的选择,并且能效更高。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS提供了监测系统性能和优化流程的工具,从而延长了设备寿命并降低了拥有成本。总体而言,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200 DxZ是一种先进、高效和经济的PECVD反应堆,旨在满足业界最严格的底物要求。它在一系列工艺选项中提供了卓越的性能、多功能性和生产率,确保了用于集成电路(IC)制造的先进薄膜的最佳沉积效果。
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