二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9206456 待售
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ID: 9206456
晶圆大小: 8"
CVD System, 8"
Chamber A:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber B:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber C:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber E: MS Cool
Mainframe:
System placement: Through the wall
Robot type: HEWLETT-PACKARD Robot
Robot blade: Nickel coated AL
OTF: Yes
W/F Position sensor: Yes
Loadlock:
Loadlock cassette: Narrow
Wafer slide sensor: Yes
Wafer mapping: Basic
N2 Purge type: TYLAN 2900
System monitor:
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Stand alone
Generator rack:
(3) Racks
Generator 1: AE RFG 2000-2V
Generator 2: AE RFG 2000-2V
Generator 3: AE RFG 2000-2V
Heat exchanger:
APPLIED MATERIALS, AMATO
Chiller: No
Dry pumps: No
Signal tower: No
Umbilicals:
Monitor: 55 ft
Signal cable length (S/C ~ MF): 50 ft
HX Cable length: 55 ft
Gas delivery option:
MFC Type: STEC 4400 MC
Valves: Veriflo 10 ra max
Filters: MILLIPORE
Transducers: MKS W/O Display
Regulators: Veriflo
Single line drop (SLD): No
System cabinet exhaust: Top
System controller:
Slot Rack BD
2 System Reset
3 Lk Det 1 &2 or Conv/TC
4 Lk Det 3&4 or Conv/TC
5 Lk Det 5&6 or Conv/TC
6 Lk Det 7&8 or Conv/TC
9 EWOB Centerfinder
12 Floppy disk drive
13 Hard disk drive
14 Chamber A interface
15 Chamber B interface
16 Chamber C interface
17 Chamber D interface
18 Chamber E interface
19 Mainframe interface
20 Loadlock interface
22 Chamber A Dl/O 2
23 Chamber B Dl/O 1
24 Chamber B Dl/O 2
25 Chamber C Dl/O 1
26 Chamber C Dl/O 2
29 Chamber E Dl/O
30 Synergy SBC(V440)
32 Video
33 I/O Expansion
34 SEI
35 Chamber A Al/O
36 Chamber B Al/O
37 Chamber C Al/O
39 Mainframe Al/O 1
40 Chamber E/MF Al/O 2
41 Mainframe Dl/O 1
42 Mainframe Dl/O 2
43 Mainframe Dl/O 3
44 Mainframe Dl/O 4
45 Mainframe Dl/O 5
46 Mainframe Dl/O 6
47 Stepper 1
48 Stepper 2
49 Stepper 3
50 OMS (VMEX)
RF Generator:
Chamber Maker Model
A AE RFG 2000-2V 3155053-003B
B AE RFG 2000-2V 3155053-003B
C AE RFG 2000-2V 3155053-003B
RF Match box:
Match multifunctional ADPTR
With interlock 7-J14 OHM
Chamber Maker Model
A AE 155077-003B
B AE 315S077-C03A
C AE 315S077-C03A
Power: 200/208 V, 240 A.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ是一种高性能、多处理等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）反应器，用于生产半导体、显示器和光伏行业的先进材料。此工具旨在让客户通过单一系统解决各种材料加工难题,例如高生产率的氧化物层、用于PERL应用的PECVD a-Si材料的沉积,以及在大直径基板上的薄层沉积。它在三个维度上提供了卓越的特征控制,提供了对关键组件拓扑结构的精确控制.AMAT Centura 5200 DxZ配备了一些业界最先进的腔室工程。它有一个晶片基板几何形状，能够加工各种尺寸的基板，最大为8英寸，由一个高度工程化的预处理室和一个主（加工）室组成。为了确保过程操作过程中的均匀性和一致性，对腔室进行温度控制和严密监控，以确保温度条件稳定。APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ还配备了许多直观的软件包,可实现自动化的过程控制、温度实时监控和可编程的配方创建。这允许在生产过程中优化刀具效率和过程一致性,并有助于降低拥有成本。为了提高吞吐量,Centura 5200 DxZ提供了多种高级功能,包括双喷嘴设计（可同时处理两个基板）和双相调制过程（可实现更高的沉积率）。腔室设计还包括先进的无窗蒸发技术，这有助于减少维护周期的数量，并进一步降低生产成本，而不是传统的方法。此外，AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ采用高效的工艺气体输送系统，有助于减少前体和化学品的使用，从而有助于降低材料成本和减少对环境的影响。AMAT Centura 5200 DxZ是一种高度先进且用途广泛的反应堆,为用户提供了一种先进的解决方桉,用于以严格的精度生产先进材料。通过使用直观、高度自动化的软件和各种高级功能,它能够满足依赖高级材料加工的行业不断变化的需求。
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