二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax #9244054 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax是一种半导体，可实现晶圆蚀刻、沉积、剥离和清洁反应器。该设备能够处理各种配置的基板，并具有一系列的吞吐量能力。Centura 5200允许精确控制工艺参数,最大限度地提高模具产量和盈利能力。Centura 5200配备了多个旨在优化生产过程的创新组件。它具有一个灵活的Endura工艺室，可以配置以满足个别工艺需求。该室采用斜壁PECVD（等离子体增强型化学气相沉积）工艺，通过将所有工艺合并为一个系统来提高吞吐量。这个腔室有一个高精度的平台，确保完美的晶圆对准，允许精密蚀刻和沉积。此外，零压缩边缘隔离（ZCEI）技术在室内实现，进一步提高了对工艺参数的控制，改善了整体流程。Centura 5200Further通过持续监控过程条件的吞吐量保护机制确保过程控制。这是AMAT Trusted Integration体系结构的关键组成部分,它提供认证的过程控制并保证质量。该单元还采用先进的真空设计技术，允许清洁工艺室和更快的周期时间。反应堆配有各种专门的沉积/蚀刻工艺，旨在满足独特应用的需要。它配备了氮化硅沉积技术，提供了更高的保形性和优越的介电性能。金属盖茨沉积技术能够产生密集的硬面层，在蚀刻阶段保护底层特征。此外,该机器还利用Smooth Surface湿清洗和蚀刻工艺在生产过程中优化晶片的清洁度和均匀性,显着提高了后处理性能。Centura 5200由一个集成的工具平台提供支持,该平台旨在促进高效的工具监控和管理。它配备了Smart Alarm Manager,可实现过程监控的高效自动化,并有助于防止生产成本高昂的标线。性能分析平台允许用户识别潜在问题并实时管理生产过程。最后,资产配备了统一的云API（应用程序编程接口）,可跨设备互操作性和工具到工具连接提供无缝集成和统一控制。AMAT Centura 5200 eMax是一种强大的半导体晶片蚀刻、沉积、剥离和清洁反应器。该设备具有全面的工艺控制、先进的沉积/蚀刻工艺以及集成的模型平台，非常适合生产先进的半导体器件。