二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi #157515 待售

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AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi
已售出
ID: 157515
晶圆大小: 8"
Reactor, 8" 3 HTF Epi chambers ATM or RP Standard (Legacy) gas panel.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi反应堆设计为生产质量卓越、性能强劲的半导体器件。这种先进的反应堆是用于制造高性能半导体器件的最先进的工具。该反应堆采用先进的热控制设备,温度稳定度高达0.01°C,使半导体器件的制造具有统一的微积分特性。此外,反应堆还设有计算机控制的底物温度控制系统,该系统允许精确的温度控制,这对于最小化过程引起的应力和最小化缺陷至关重要。反应堆还提供了一个全自动、集成的设备制造过程,具有实时数据监测和实时现场分析。这使用户能够针对不同的材料和工艺条件轻松优化工艺参数。AMAT Centura 5200 Epi反应堆为用户提供自动加热、冷却和大气控制,以提高半导体基板的性能。该单元基于一个包含最多三个硅片的计算机控制反应室。这样可以快速制造设备,最大限度地缩短加工时间,并提高基板的均匀性。反应堆还配备了层流气体分布机,以最大限度地在整个容器上均匀分布气体,能够供应高达0.1或1.0毫巴的氙氮气或​​的氙氢溷合物。该工具可以精确控制晶圆腔,确保一致且可重复的钝化和电路形成。此外,APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi Reactor先进的晶圆温度和大气控制系统使用户能够根据其特定的设备制造需求精确调整工艺参数。该资产还具有湿式或干式氮气成分和各种预有线电气端口,便于在设备制造过程中快速、方便地获取测试参数。Centura 5200 Epi Reactor面向应用的设计确保了设备制造过程可以根据个别用户需求进行个性化。该模型提供了一系列用户友好的控制和监控功能,使用户能够优化其流程以获得最大的产量和性能。此外,该工具的设计是为了保证可靠和可重复的生产成果,并且是市售的。
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