二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi #164775 待售
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ID: 164775
Reactor
ATM 2 Chamber configuration
AC Rack:
3 Phase, 208 V, 400 A
CB1 Trip unit: 500 A
GFCI option: Yes
Water leak detect option: Yes
AccuSETT controller: Yes (3 channel)
5 Phase controller: Yes
Loadlock:
Type: Narrow body
Wafer mapping: Yes
Wafer slide detect option: Yes
Baratron: MKS
Transfer chamber:
Robot type: HP
Center finder: OTF
Slit valve plate: Insert O-ring type
Col down chamber: Yes (#F position only)
Robot blade: Quartz
Process chamber (2 Chambers):
Chamber typeL: EPI ATM
Susceptor: 0200-01932
Pre heat ring: 0200-35081
Susceptor support shaft: 0200-00412
Wafer lift shaft: 0200-00412
Upper dome: 0200-35084
Lower dome: 0200-35042
Temp pyrometer: (3ea) with AUX
Baratron: 1000 Torr
AMV: (2ea) Inner/outer
Blower type: VSB
Blower motor: Baldor
Gas panel:
MFC Unit 1660
ETC:
Umbilical cable: 55 Ft
Transformer:
TR: 480/208V, 130 kVA
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi是一款先进的等离子体增强沉积设备。它是一个批量型反应器，常用于沉积先进的材料，如硅、、、、、、等，用于集成电路製造。AMAT Centura 5200 Epi具有业界领先的垂直和水平基板配置,可实现最高水平的可扩展性和生产灵活性。APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi由两个溷合感应耦合等离子体源提供动力，提供高度均匀的低压沉积。它配备了Endura Ion Energy Shaping III（IES III），这是一种专有技术，能够实现精确的表面自限制和层层沉积均匀性。这些层由高性能的介电层和金属化层组成。离心气体喷射器（CGI）和运行结束冷却系统设计为允许快速冷却和循环利用，以最大限度地延长循环时间。CGI允许快速、精确和可重复地将主要工艺气体引入反应堆。这通过维持热平衡来提高沉积室的效率。该设备还具有远程运行结束冷却剖面,使腔室在切换到惰性大气之前能够快速达到安全温度。通过快速冷却工艺室,确保最大循环时间和颗粒控制.Centura 5200 Epi还配备了一套软件,包括流程配方和严格的控制技术。该设备可配置为高温、高速率沉积,用于更高的吞吐量应用。此外，内置的非接触晶圆温度测量机为过程控制提供了快速、准确的现场温度测量。总体而言,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200 Epi是用于高精度、高可靠性生产过程的完美工具。其独特的特性组合使其能够提供半导体行业所要求的最高水平的材料沉积均匀性和可扩展性。
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