二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP #137526 待售
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已售出
ID: 137526
晶圆大小: 6"
Tungsten WxZ / HeWEB system, 6"
(2) Deposition and (2) etch chambers
Process: CVD W
Standard Centura frame
SoGware Version: E3.0
System Power Rating: 208 VAC 3Phase
Loading Configura(on: Narrow Body Dual AutoIndexer Loader
Chm Positon A: HeWEB. Chamber: Gases/Chemicals Used: Customer specific
Chm Positon B: HeWEB. Chamber: Gases/Chemicals Used: Customer specific
Chm Positon C: WxZ. Chamber: Gases/Chemicals Used: Customer specific
Chm Positon D: WxZ. Chamber: Gases/Chemicals Used: Customer specific
Chm Positon E: Mul( Slot cooling Chamber: Gases/Chemicals Used: N2
Chm Positon F: Orient chamber
System Configuration:
AMAT CENTURA 5200 Standard Mainframe Body
AMAT CENTURA 5200 Mainframe Transfer Chamber
(2) Narrow Body Loadlock Chamber
(2) WxZ Process Chamber
System Controller/AC Power Box
CRT Monitor with Light Pen
RF Generator rack
Currently stored in a warehouse.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP是一种PECVD（等离子体增强化学气相沉积）反应器，用于半导体晶圆基板和其他电子元件的批量生产。它是一种高通量、可配置的台式机工具,具有多脉冲配方,在操作条件下具有精确的可重复性和无与伦比的一致性。AMAT Centura 5200 MxP由于其灵活的模块设计-包括一个特殊的"多路复用器"模块,旨在支持多达9部独立影片,因此可以从同一运行中提供多部影片。这使最终用户能够实现更高的吞吐量和更少的生产步骤。5200 MxP基于MxP硬件体系结构,旨在通过集成新的工具组件和流程提供最大的灵活性和可扩展性。它包含一个膜沉积过程中底物温度精确控制的表面跟踪系统，一个金属离子等离子体蚀刻的反应性离子设备，以及一个先进的调节内部环境的反应控制系统。反应堆配有扩散屏蔽装置，可确保整个基板上的沉积一致，减少不良的电和热效应。此外，5200 MxP还有一个再循环对流冷却系统，在基板表面保持精确的温度轮廓，允许高性能薄膜。APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP内置动态反馈控制（DFC），可实时响应沉积条件并进行修正调整。此功能有助于在整个基板上保持均匀的厚度,同时还可减少任何不良影响,如电应力和热应力。Centura 5200 MxP的整体设计以快速的速度提供了可靠和可重复的结果,使其成为大规模大批量制造应用的理想选择。它的集成设计，结合先进的反应控制和温度控制系统，保证了任何种类的底物均匀和优越的效果。
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