二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I #9186211 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I
ID: 9186211
晶圆大小: 8"
Poly etcher, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 I期是一种高性能等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器,设计用于高纯度、低应力沉积膜的沉积。该反应堆具有感应耦合等离子体(ICP)蚀刻、离子注入、等离子体增强原子层沉积(PEALD)等广泛的加工技术。晶片床可以处理多达三百毫米(300毫米)和六英寸(6英寸)晶片,污染最小。它利用一个气箱为任何晶圆尺寸创造一种稳定和可再现的化学性质,从而确保每个矿床的均匀厚度和平滑度。晶片床采用温度控制,确保每个工艺周期的基板温度相同。AMAT Centura 5200 Phase I配备了优化的微波功率设备,其效率和功率都比以前的型号更高。该系统可确保它为处理诸如蚀刻和沉积等步骤提供更一致的功率。还对薄膜沉积过程中的颗粒计数进行了优化。该设备具有多种工艺功能,使用户能够处理各种材料。针对薄膜沉积、硫化物蚀刻和阳极键合工艺进行了优化,可用于沉积氮化物、多晶硅、氧化物、铜等薄膜。此外,该反应堆能够沉积无定形和多晶材料,从而能够快速原型或推出产品。机器还带有一个温度控制器,可以设置为目标所需的晶圆温度。反应堆还设计了自动压力和流量控制工具,以保持一致和优化的工艺室压力。它还配备了碳氢化合物监测仪和多通道射频流量计,以优化工艺重复性。APPLIED MATERIALS Centura 5200第一阶段旨在在安全性和可靠性方面超越行业标准。符合SEMI安全标准并获得CE认证。它还有一个深紫外线灯,其保质期比传统的汞灯更长,保证了清洁无菌的沉积环境。对于正在寻找可靠、坚固、安全的PECVD资产的客户来说,这个反应堆是一个绝佳的选择。
还没有评论