二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 PVD #9036839 待售

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ID: 9036839
晶圆大小: 8"
PVD Sputter System, 6" Chamber type: Position B: AL Standard body, 12.9" Source Position F: (1) CH & Standard orienter degas Wafer type: SNNF Type As-is.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 PVD(物理气相沉积)反应器是为高级工艺开发而设计的强大而精确的工具。这种工业级沉积设备提供了最先进的技术,可以提供高纯度、高性能的沉积物,用于生产各种用途的薄膜材料。该系统具有外延、无定形和多晶沉积能力,具有良好的均匀性和可靠性,具有高效的能量传输和低背景室噪声的独立环境。AMAT Centura 5200 PVD反应堆的整体设计包括一个封闭的前装载室,密封以防止外部污染物进入。反应室内是一个稳定的环境,有助于将温度均匀性保持在较低水平,同时向成功的沉积作业所需的多种独立过程气体提供均匀的动力。此外,前部装载室是可访问和设计的快速,安全,方便样品装卸。APPLIED MATERIALS Centura 5200 PVD反应堆的关键部件包括一个多区石英射频基板支架,它允许用户调整工艺气体的停留时间和流动状况。它还具有有效分散基板以实现均匀沉积的能力。反应堆还配备了多个淋浴总成,这样可以使工艺气体均匀分布,更好地控制沉积均匀性。此外,5200 PVD反应堆提供温度控制和冷却能力,以便有效地除热,以维持稳定和低温的环境。基于机器人的集成部件处理单元通过提供自动化的样品处理操作,确保了一个干净高效的过程。总之,Centura 5200 PVD(物理气相沉积)反应器是一种高性能的机器,为薄膜层沉积应用提供了优越的效果。它提供了出色的统一性、控制性和稳定性,其创新的设计降低了过程的复杂性,并消除了频繁维护的需要。这种可靠、高效和通用的工具是高级流程开发的完美解决方桉。
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