二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Ultima TE #293768621 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Ultima TE是一种高性能材料沉积的高度先进的基于等离子体的反应器。该反应堆能够生产用于一系列技术应用的高质量薄膜。它提供了各种各样的特性，使其与传统的高压化学沉积（HPCD）系统区分开来。5200 Ultima TE结合了高效的等离子体源，允许优越的薄膜质量沉积。这是由于在施加的等离子体中离子和带电粒子的高密度，从而确保晶片对晶片的均匀沉积。此外，反应器还具有射频离子源，可以实现最大的沉积速率和对薄膜沉积速率和均匀性的精确控制。5200 Ultima TE还利用先进的低噪声射频匹配,有助于减少相邻腔室的热干扰和射频泄漏干扰。这不仅提高了薄膜质量，而且提高了晶圆平面的均匀性。此外，该反应堆还具有降低沉积应力的低排放冷却技术，从而提高了底物和薄膜的质量。5200 Ultima TE还具有多气体等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统。该系统允许氧化硅和氮化硅薄膜的高质量沉积。反应堆中使用的软件还提供各种气体和工艺参数的稳定和调谐能力，允许高均匀性薄膜。此外,此系统还支持高级晶片对晶片的控制,从而最大限度地减少任何边对边的差异。5200 Ultima TE支持多宽度处理功能,可提供并行处理功能。这样可以保持高达320瓦的功率并达到每小时5,000个晶圆,从而显着缩短晶圆处理时间。总体而言，AMAT Centura 5200 Ultima TE是一种用于高性能材料沉积和加工的最先进的等离子体反应堆。反应堆可用于PECVD、增强蚀刻、优化真空处理等多种先进工艺。该反应堆提供了一套广泛的特点和技术，利用高效的等离子体操作优越的薄膜质量和均匀性。