二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP #118471 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS Centura 5200 WxP是一种高性能化学气相沉积（CVD）反应器，专门设计为一种用于生长超薄膜和纳米结构的多功能平台。它是一种高度灵活、高温（最高1000 °C）的CVD设备,具有广泛的功能和特点。AMAT Centura 5200 WxP有两个独立的反应室。反应堆主室是CVD系统的心脏，第二室用于沉积前、沉积后等辅助过程。主反应堆室能够同时处理直径4英寸的晶片，在整个表面具有很高的热均匀性。反应室的最高温度为1000 °C，1°C增量范围为0-1000 °C。它配备了可编程的高温气体输送单元、温度控制和气体溷合机，以及用于精确气体输送的质量流量控制器。CVD反应堆配备了多种创新技术，包括专有的脉冲气体加载工具、实时数字温度控制资产以及主反应室内的双石英牺牲窗。APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP还具有各种工艺气体的热和非热集成的先进能力,并同时支持多达四种不同的源气体。Centura 5200 WxP的独特功能之一是其闭环技术,它能够自动化和精确控制CVD沉积过程,而无需任何手动干预。这使得自动化的过程控制与最低限度的人工干预。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP可用于沉积多种薄膜和纳米结构材料，如金属、氧化物、聚合物和官能化材料。它是一个先进的沉积平台，能够沉积各种复杂的材料，从纳米级结构到高k介电材料。该模型的高温和纤薄沉积能力使其非常适合用于涉及超薄膜和纳米结构的研究应用，如量子计算和传感器。AMAT Centura 5200 WxP是一款功能强大、用途广泛的CVD设备，能够生产出多种薄膜和纳米结构。其先进的实时温度控制、脉冲气体载荷、多工艺气体能力，使其成为复杂纳米结构和功能材料沉积的理想选择。通过闭环自动化,APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP非常适合需要精确温度控制和效率的研究和工业应用。