二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxZ WCVD #9008251 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxZ WCVD（化学气相沉积）反应器是一种先进的半导体加工设备，设计用于将薄膜层沉积在表面，用于一系列产品。Centura 5200 WxZ专为用于复合半导体和金属应用的均匀保形薄膜而设计。这是通过多种技术实现的，包括低温物理气相沉积（PVD）、大气压化学气相沉积（APCVD）和广域化学气相沉积（WCVD）。Centura 5200 WxZ配备了高真空室，用于清除沉积环境中的杂质，减少过程中受到污染的机会。此外，该室还配备了多室晶片处理设备，能够在沉积薄膜的同时高效装卸晶片。晶圆处理系统也使得在处理过程中容易监视和控制每个晶圆。反应堆还设有一个综合的、由计算机控制的原位气体输送装置，该装置精确地输送、监测和控制气体流动和输送介质，以便在沉积过程中达到最大程度的均匀性。Centura 5200 WxZ是一款功能强大、高性能的机器,具有更高的精度能力。它能够为广泛的产品沉积各种厚度和质地的薄膜，包括氮化​​的氙（GaN）和氧化​​的移行（GaO）薄膜，以及用于光电应用的金属-氧化物-半导体（MOS）结构。此高级工具使用户能够实现更高的流程重复性和更高的吞吐量。Centura 5200 WxZ除了提供精确的控制外,还提供卓越的可靠性和耐用性。该资产由坚固的材料构成，这些材料设计用于在最具挑战性的条件下的优越操作。它还具有先进的过程控制模型,使用户更容易实时监视和修改参数,从而确保始终保持最佳性能。总体而言，AMAT Centura 5200 WxZ WCVD反应堆是一种可靠而强大的设备，用于沉积薄膜，并在一系列应用中实现卓越的工艺重复性。其先进的晶圆处理系统和精确的气体输送装置使用户能够实现均匀保形的薄膜，并具有最大的可重复性。机器优越的制造质量也使它成为一个坚固耐用的设备，能够承受甚至最具挑战性的条件。