二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i #9211673 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i是一种先进的等离子体反应器，设计用于半导体加工。它采用锚定多电极阵列，提供具有完全工艺控制和精度的蚀刻和沉积速率。反应堆采用独特的等离子体腔室设计，允许等离子体密度在任何给定的速率或功率水平下进行优化，确保即使在高功率水平下的均匀性和可重复性。AMAT Centura ACP P3i能够支持多种基于等离子体的过程；包括蚀刻、沉积和沉积蚀刻。它能够支持低k电介质蚀刻、SiGe选择性和毯状沉积，能够实现更高的SRAM密度和更快的存储单元形成，从而提高设备的产量和可靠性。APPLIED MATERIALS Centura ACP P3i使用先进的等离子体源技术以及先进的诊断和控制系统进行过程控制和优化。它能够实现最具挑战性的结果，如低蚀刻率、高沉积率和短周期时间。Centura ACP P3i配备了高效的电极分布，有助于最大限度地减少底切，从而提高工艺质量。反应堆的质量流设备在整个过程中提供准确的气流，基板冷却系统有助于保持准确的温度。其低功率损耗和低能耗导致每晶片成本降低和生产效率提高。该P3i有一个坚固的安全单元，具有故障安全离子源和密封钢坯测试硬件与NIST跟踪控制。该P3i的设计符合SEMI安全标准，与大多数晶圆厂自动化系统兼容，与现有设备集成。AMAT/APPLICED MATERIALS Centura ACP P3i是一种功能强大且可靠的反应堆,可提供卓越的过程控制和可重复性。它提供了许多专为高级半导体加工而量身定制的特性和功能。其先进的等离子体源技术使它即使在具有挑战性的工艺条件下也能提供精确、可重复的结果。此外，其坚固的安全机器、经济高效的生产方法以及与自动化系统的兼容性，使其成为先进晶圆制造的绝佳选择。