二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP Radiance #9055082 待售
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已售出
ID: 9055082
晶圆大小: 12"
优质的: 2003
RTP system, 12"
(3) Chambers (A, B, D): Radiance RTP
Gas, MFC full scale:
N2 Frame 20000sccm/NH3 30000sccm
N2O(30000)/He 5000sccm/N2 Low 500sccm
O2 Low 10000sccm/O250000sccm/N2 50000sccm
N2 BOT 50000sccm/He BOT 50000sccm/N2 MAG 100000sccm
Parts missing:
0190-16691 Load Port 2set
0190-02506 Interlock board
0040-52348 Lamp head
Equalization valve
0190-25863 FI Controller(Master)
0100-00658 Back plane board
RH35M-4DK FI Fan
0150-04117 Flat cable
0040-52348 Lamp head
0190-25863 FI Controller(SLAVE)
1080-01264 Lift motor
9101-1999 Lift driver
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP Radiance是一种高性能、自动化的大气化学气相沉积(CVD)反应器,设计用于制造先进的半导体和光电器件。该反应堆由一个石英喷头和圆柱形室以及一个先进的控制系统组成。腔室分为三个独立可控的加工区,允许设置和维护广泛的加工参数。腔室有四种可独立调节的气体分布,用于输送氢气、氙气、氮气等工艺气体,从而增加了柔韧性和控制力。AMAT Centura ACP Radiance使用可编程微波源,提供准确、均匀的等离子体加热,允许更快的工艺时间和改进的胶片性能。微波源提供了根据工艺要求改变微波辐射功率和频率的灵活性。该反应堆采用可编程热管理系统(PTMS),通过调制微波功率在整个处理周期内提供精确的温度控制。这有助于尽量减少区域不平衡造成的不均匀性。APPLIED MATERIALS Centura ACP Radiance具有直观的图形用户界面,易于操作和编程。该控制器还提供实时过程监控和主动故障保护,以提高过程稳定性和可重复性。为确保反应堆以峰值性能运行,可能会增加一些可选组件,如离子源、涡轮泵和射频发生器。与其他CVD沉积系统相比,Centura ACP Radiance提供了更高的吞吐量、更好的可靠性以及更高的产量和生产率。它能够在先进的半导体和光电材料中创建复杂的特征和图样,使其成为制造超薄膜和高k电介质的理想工具。广泛应用于薄膜晶体管、集成电路、微机电系统、LED晶片等先进电子元件的制造。
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