二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP RP #9170816 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP RP是一种高效的半导体反应器，设计用于高级电路处理。该反应堆能够在最复杂的晶片上执行20个复杂的蚀刻过程，同时产生极高的电路精度。Centura等离子体工艺提供优于市场上任何其他化学气相沉积（CVD）或蚀刻系统的室控制和过程复杂性。AMAT Centura ACP RP有两个涡轮泵站，每个泵站都能抽出0到1.2 torr的范围，还有两个溷合功率为35kW的大功率电子回旋共振（ECR）源。该设施还设有两个石英反应物气体入口和两个石英质量流量控制器，从而能够精确控制工艺气体。此外,APPLIED MATERIALS Centura ACP RP的超大型加工室提供了符合反应性离子蚀刻（RIE）和热线化学气相沉积（CVD）工艺的低压源。在特性方面，Centura ACP RP包括一个高解析度的激光干涉仪，用于检测由于过程漂移导致腔室内的任何错位。该系统还包含多个分布式应用程序端口,用于同时操作和控制多个过程步骤。由于技术的更好同步,这使得流程具有更高的准确性和可重复性。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP RP是高级电路处理的理想选择,因为它具有先进的过程复杂性,因此在速度和产量方面表现出色。此外，该设施的超大型腔室在目标晶片上保持均匀沉积，从而能够以更高的精度合并多层。AMAT Centura ACP RP提供的优越腔室控制也使其适合于CIP（Clean-In-Place）处理，显着减少交叉污染和潜在产品缺陷。总体而言,APPLIED MATERIALS Centura ACP RP是一种可靠的半导体反应器,可保证卓越的工艺性能,并实现极其复杂的电路处理。Centura ACP RP具有先进的功能、强大的设计和广泛的功能,是芯片制造商的理想选择,他们需要从蚀刻或沉积过程中获得极高的精度和可重复性。