二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP-SIGE #9199635 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP-SIGE（原子电容等离子体表面绝缘栅极蚀刻）反应器是一种专门用于生产先进纳米级晶体管和集成电路的等离子体蚀刻系统。它使用具有原子精密等离子体源的感应耦合蚀刻气体，在蚀刻硅、移植物、砷化氙等绝缘材料方面实现高选择性。AMAT Centura ACP-SIGE的工作原理是先将等离子体施加到硅晶片上，硅晶片是一种可以通过电流的基板。这将晶片的表面变成导体，从而能够对蚀刻过程进行大量控制。随着蚀刻气体通过系统，来自晶圆表面的等离子体被蚀刻气体通电，产生高度选择性的蚀刻过程。可控的等离子体过程允许对目标材料进行极其精确的蚀刻，并对蚀刻过程造成的损害进行精确的控制。除了控制蚀刻工艺，APPLIED MATERIALS Centura ACP-SIGE还提供了一个低成本的解决方桉来实现maxium选择性。在蚀刻之前应用于晶片的集成栅极绝缘层有助于防止在界面上发生不需要的沉积或植入，确保蚀刻过程附着在目标区域，而不会对相邻材料造成任何无意的损坏或污染。Centura ACP-SIGE还允许使用高通量解决方桉,每分钟可蚀刻多达12立方厘米的材料。这意味着可以在更短的时间内处理更多的材料,从而提高生产率和效率。总体而言，AMAT/APPLICED MATERIALS Centura ACP-SIGE（原子电容等离子体表面绝缘栅极蚀刻）反应器是一个非常好的工具，用于在预算紧张的情况下生产高质量的集成电路和晶体管。它提供了对蚀刻过程的高度控制、低成本和高度选择性。ACP-SIGE卓越的吞吐量能力也使其成为大批量生产应用的理想选择。