二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler #9027457 待售
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已售出
ID: 9027457
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
Dielectric etcher, 12"
Process: Cu 62L, 65L, & 92L
Software version: B2.6_45
System Power Rating: 208 AC 3-Phase for system
Loading configuration: 3
Ch-A: Etch chamber 1
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-B: Etch Chamber 2
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-C: Etch Chamber 3
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-D: Etch Chamber 4
Gases used: C4F6/CH2F2/C3F8/CF4/O2/N2/AR/C4F8
Ch-TC: Transform Chamber
Gases used: N2 (venting)
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler是一种高温化学气相沉积(CVD)反应器和真空沉积室。它被设计用于从半导体器件金属化的薄层沉积到低温有机甚至原子层沉积(ALD)的广泛应用。它非常适合半导体器件生产在各个行业,包括内存,医疗和MEMS器件生产。AP Enabler是以低温真空室为基础,该室具有极好的均匀性和可重复性,具有其他工业CVD反应器无法比拟的温度稳定性。该设备有一个10轴高移动速度的机械臂以及精确的运动控制,以便在沉积过程中进行精确定位,并允许形成图桉化的层。室内使用的反应性气体通过狭窄的管子引入,使潜在的污染降至最低。AP Enabler还配备了数据记录系统,可以对气体流量、压力和温度等参数进行详细分析。数据记录单元还允许用户实时调整沉积温度和压力等过程参数。其他机器特性包括独特的气体跟踪特性,旨在将反应性气体从载气中自动解开,然后再引入腔室,以减轻沉积污染的风险。AP Enabler工具是一个可靠、经济高效的解决方桉,可以轻松地与其他流程集成,为特定应用程序创建自定义配置。该资产还能够同时容纳多个晶片,并且能够为高速设备生产提供近乎完美的均匀性。此外,AP Enabler的设计便于维护,其坚固的组件旨在防止与腐蚀相关的损坏并简化清洁。
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