二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler #9282211 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Enabler是一种多区电子回旋共振（ECR）气基蚀刻反应器。它专为薄膜晶体管和金属氧化物半导体（MOS）器件等基于硅的应用而设计。它具有独特的内部冷却和偏置源模块,允许制造高纵横比功能,从而实现更多的制造功能。Enabler还能够实现一系列经济高效的工艺条件,并在整个晶圆上表现出非同寻常的工艺一致性。AP Enabler以恒定功率模式运行，提供高等离子体密度和可重复的配方。ECR等离子体源提供高精度和重复性的高能沉积和蚀刻，使蚀刻均匀性和特征分辨率更高。等离子体源被封闭在一个辐射屏蔽室中，在极低的压力（10-5毫巴）下操作。ECR源由24GHz、40GHz和60GHz三个螺旋共振组成，每个螺旋具有独特的作用。它还配备了独特的磁铁设备，能够完全控制整个晶圆的等离子体密度调制，以实现更大的特性均匀性和可重复性。Enabler反应堆建立在AMAT Centura平台上，融合了高通量和双腔室设计，允许工艺序列优化。这两个腔室由加工腔室和装卸腔室组成。该工艺室包含单晶片冷却屏蔽层，允许在蚀刻和沉积之前对反应堆进行冷却和预调整。该锁载室用于基板进出加工室，不需要专门的真空装卸系统。Enabler能够通过多区处理执行无机和有机蚀刻过程。它通过使用多个区域边界参数（如腔室压力、冷却流量和气体组成）来提供对蚀刻速率的精确控制。这样就可以根据不同的蚀刻需要量身定制特殊的配方和工艺。它还具有增强的热管理单元,以实现更准确、可靠和可重复的性能。AP Enabler针对生产规模分析进行了优化,并提供了集成的端点检测和高级过程控制。该机器的数据收集功能和高级分析支持可重复的过程配方、改进的蚀刻产量和过程可追踪性。所有这些功能使Enabler能够满足半导体制造商高级应用的高产要求。