二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Frame #9293610 待售

AMAT Centura AP Reactor是一种化学气相沉积（CVD）设备，设计用于半导体工业。它是一种单晶片工具，可配置为在各种介电和金属基板上形成厚膜或超薄膜沉积。该系统采用独特和创新的工艺室设计，允许更高的产量和更好的均匀性。其易于调节的基板支架提供了广泛的工艺参数，从而提高了生产效率。Centura AP反应堆配备了通用加热单元，允许沉积各种材料，包括Silicon-3 （Si3）、碳化硅（SiC）和二氧化钛（TiO2）。其多站能力和高温运行使Centura AP成为各种低k和高级介电应用的理想选择。这台机器还配备了一个专有的CVD工具，可以在基板的所有区域生产出厚度均匀的高质量薄膜。该工具还利用了一种高气体流量的资产，据说这种资产可以显着减少浴缸的阻塞。通过控制过程温度较高的反应，模型可以进一步降低金属扩散。高温也使吞吐量最大化，减少了粒子量。最重要的是，Centura AP反应堆的有效晶片冷却设备在腔内和腔外都能快速均匀冷却晶片。AP反应堆的高级控制器提供了极好的灵活性和易用性。它支持复杂的配方,最多有8个物料来源和10个工艺参数,使工程师能够快速调整该工具以适应不同的配方和沉积速率。主计算机支持简单的配方设置、高级流程监控和警报消息传递。此外，它还为用户提供了关于薄膜表征的深入数据和强大的基板控制模块，使操作员能够在采集或冷却时间精确控制基板的定位。而且，Centura AP反应堆提供了增强的安全特性。它包括一支安全笔，在添加太多材料时提醒操作员，在腔室压力过低时自动关闭功能，以及其他确保安全有效操作的措施。作为最后的触摸,系统还配备了易于维护的选项,允许快速、轻松的清洁和维修。总体而言，APPLIED MATERIALS Centura AP Reactor是任何需要高效和均匀沉积的半导体生产商的先进和可靠的CVD工具。它以合理的价格提供最大限度的过程控制、单元灵活性和增强的安全功能,使其成为任何CVD应用程序的理想工具。