二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9149535 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X是一种等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器。它为快速、可靠和可重复制造先进的II-VI和III-V半导体薄膜提供了先进的性能。Ultima X能够为最具挑战性的设备制造要求生产高纯度、高应力和低缺陷的薄膜。Ultima X反应堆设有无壁（自退火）PECVD室，以及传统的烟道淋浴头淋浴头，使低温不均匀的各种保形膜得以生长。此外,它还提供了可变压力和温度控制的过程气体在淋浴头.源电源为淋浴头提供射频功率的线性调节，以及高达200 MHz的各种等离子体频率选项。这样可以实现出色的填充系数和临界尺寸均匀性。UltimaX还采用了先进的加热区技术，具有快速上升和下降速率。这有助于减少压力和防止污染，同时控制最终的薄膜性能。反应堆先进的石英淋浴头和基板支架保证了高温均匀性和优越的薄膜特性。与传统的喷头设计相比，高温均匀性确保了良好的物料传递可重复性，并提供了更好的阶跃覆盖。AMAT Centura AP Ultima X耐用的石英成分使其适合难于和温度敏感的沉积。Ultima X是为提高产量和吞吐量而设计的。它能够提供标准和非标准的工艺配方。集成控制系统实时更新流程，允许快速优化设备。晶圆温度、腔室压力、射频源、气流等参数是监测条件，并自动控制。APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X反应堆非常适合原型设计、开发和高性能电子元件的大批量生产。其先进的性能使用户能够快速开发、测试和迭代以提供远远优越的产品。其优化的设计和高温均匀性保证了重复可靠的效果。