二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9172654 待售
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ID: 9172654
HDP CVD System, 12"
Factory interface (FI) version: 5.3
Number of load-ports: 3EA
FI Robot type: KAWASKI with edge grip & Pre-aligner (single axis)
Mainframe type: 300mm CenturaAP mainframe
Vacuum robot type: VHP with 2 ceramic blades
LLKA: SWLL
LLKB: SWLL
Chamber configuration:
A: Ultima X HDP-CVD
B: Ultima X HDP-CVD
C: Blank
D: Ultima X HDP-CVD
Process chambers:
Ch#A/B/D : Ultima X HDP-CVD
Process: USG STI & IMD, PSVN
Gas ring & Nozzle type: 36 Ports & 1.76” ALN Nozzles
Cathode type: 300mm Dual HE ESC
RPS Type: MKS Astron RPS
Turbo pump type:
STP-XH3203P (CH A/B)
TMP-H3603LMC-A1(CH D)
Gate valve type: NorCal
RF Generator:
Top/Side: MKS ENI Spectrum (2 MHz, 11 kW)
BIAS: MKS ENI Spectrum (13.56 MHz, 11 kW)
RF Match box:
Top/Side: Local match
Bias: AE AZX72 Auto tune match Box
IHC Type: 20/20 Torr dual IHC
WTM Type: Wafer temperature monitor 4 channels
Gas pallet configuration:
(12) Stick gas pallets (CH A/B)
N2 Purge
O2: 400sccm
NF3: 400sccm
He: 600sccm
SIH4: 400sccm
H2: 1000sccm
AR:1000sccm
SiH4: 50sccm
He: 600sccm
NF3: 400sccm
NF3: 3000sccm
Ar: 3000sccm
N2 Purge
Stick gas pallets (CH D)
N2 Purge
O2
NF3
H2 1000sccm
SiH4
He 600sccm
Ar 50sccm
H2 1,000sccm
SiH4
He 600sccm
NF3
NF3
Ar 3000sccm
N2 Purge
Gas panel feed: Bottom
Exhaust: Bottom
MFCs: Unit 8565C multiflow
Valve type: Veriflo
Filter type: Millipore
Controller type: DeviceNet
Transfer pump: ALCATEL A100L iPUP (1EA)
Primary AC rack: 2EA
Facilities UPS interface
Power requirements:
200/208 VAC, 3-Phase, 400 A, 4-Wire, Frequency 50/60 Hz
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X Reactor是一种半导体器件，用于电介质和金属膜的沉积。这种高性能设备提供了最新的高吞吐量和精确度,使工程师能够快速准确地生产各种材料中的复杂结构。AMAT Centura AP Ultima X配备了强大的PECVD（等离子体增强化学气相沉积）技术，使其能够在高温下快速沉积介电和金属膜。大基板尺寸，直径可达300毫米，处理精度高，精度高。低压、中频、高功率和低负荷相结合也显着提高了沉积速率。该系统配有一个精密的控制和监控单元，允许用户密切监控胶片的沉积。该机器能够检测基板上的合格性水平，并具有在不同的溅射水平之间切换的能力，从而能够沉积高合格性和均匀性的薄膜。该工具利用高容量气体输送资产快速输送气体，从而提高吞吐量。这还可以确保更快的启动时间,从而使操作员能够快速开始该过程。凭借易于访问和编程的三区工艺室，工程师可以生产出具有理想均匀性和一致性的坚固可靠的薄膜。APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X具有卓越的准确性和可靠性,可实现精确一致的结果。使用自动校准模型后,工程师可以放心,所产生的结果将始终满足所需的要求。此外,设备的模块化设计使维护和升级变得容易。总体而言，Centura AP Ultima X Reactor是一种先进的设备，可以用来快速准确地创建复杂的结构。该设备具有广泛的功能,使工程师能够以极高的精度和一致性快速沉积介电和金属薄膜。
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