二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9253668 待售
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已售出
ID: 9253668
晶圆大小: 12"
优质的: 2013
HDP CVD System, 12"
Chamber A, B & C:
Chamber type: Ultima X HDP CVD
Gas configuration (sccm): MFC full scale
Gas / sccm
O2 / 1000
NF3 / 100
HE / 600
SiH4 / 300
H2 / 1000
AR / 1000
SiH4 / 50
HE / 400
AR / 100
NF3 / 3000
AR / 3000
RF Source: 1.8 - 2.17 MHz, 10000W (Max)
RF Bias: 13.56 MHz, 9500W (Max)
RF RPS: 400 kHz, 6000W (Max)
2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA AP Ultima X是一种用于先进集成电路器件的制造、沉积、蚀刻和工程设计的板式反应器。它具有悬浮在工艺室上方的超低热膨胀(ULTE)石英板和可调节温度控制范围为-60°C至+150°C的次大气压室。它的热管理功能提供了温度均匀性和过程可重复性,这对于强大的生产环境至关重要。Ultima X反应堆采用多种工艺技术,包括溅射、等离子体蚀刻、碳蒸发、金属有机化学气相沉积(MOCVD)、原子层沉积(ALD)以及多种其他沉积技术。这确保了它能够适应基于半导体的高度先进技术的制造,如绝缘体上硅(TRI/SOI)和FinFET/III-V器件。它还配备了自动化的工具兼容性模块,以提供跨多个工具集的统一平台。Ultima X反应堆由于具有产生高工艺通量和低缺陷密度的能力而被广泛使用。其多工艺单元配有自动互锁等离子体密封屏蔽装置,防止等离子体进入相邻腔室,从而实现卓越的污染控制。将零件固定在腔室内的可重复使用的笼子为准确的批量装卸提供了精确的运动控制,确保了快速的晶片处理和伺服电机技术确保了可靠的处理。Ultima X还具有计算机控制的安全系统和智能能源管理功能,使操作员能够最大限度地利用资源,同时将能源成本降至最低。Ultima X是为多视图沉积和干蚀刻工艺流程提供高级集成层的行业领导者。其获得专利的自动化和控制体系结构为设备生产提供了卓越的工艺重复性、精度和产量。此外,它的散热设计和超安静的操作系统使其成为大容量制造应用程序的理想选择。总体而言,AMAT Centura AP Ultima X是一个高效、可靠和高效的反应堆,继续为半导体行业提供关键的进步。
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