二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9274497 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA AP Ultima X是一种低压、低温快速热处理（RTP）反应器，设计用于退火、掺杂、光刻等应用。它是一个闭环热设备，利用强制对流传热创造可重复和可靠的处理结果。Ultima X提供从-60°C到700°C的温度控制，最高温度斜坡速率为600°C/sec，用于快速热循环。The Ultima X features a chamber volume of 0.35 ft ³ with a 100 mm diamete process tube capable to accommitting up 33 substrates.该室具有易于使用的双密封门和排气口，用于排出加工副产品。还为基板加载/卸载提供了水平卡盘。该反应堆由单独的垂直和水平加热元件以及同时进行垂直和水平辐照的两个氙灯提供动力。该单元还配备了APIII集成控制器，提供数字温度控制，最大加热/冷却速率为1°C/秒。此控制器使用310个用户定义的配方进行预编程,以帮助简化流程。触摸屏界面提供了一种为给定进程调整参数的简便方法。控制器还集成了红外点火和真空控制系统，并提供了50个用于参数存储的数据库插槽。Ultima X提供了一个真空装置，提供5 mTorr的基本真空水平和可选的增压泵。集成的真空计确保了精确的控制，强制排气出口允许过程气体排出。机器被装在一个隔离的不锈钢盒子里,以便准确和安全地操作.UV-A石英远红外双波长辐射工具允许高效和可重复的热处理。该窗口允许最佳传输来自灯具的辐射能。该单元可与质量流控制器资产集成,以便进行特定的大气处理。固定的分离式排气管可确保腔室内的热状态均匀,同时将温度梯度降至最低。AMAT Centura AP Ultima X是理想的低压、低温RTP反应器，用于光刻和退火、掺杂等应用。它提供卓越的不锈钢设计、卓越的温度控制和精度、集成的真空模型和大气控制以及分流排气，以确保均匀的热循环。该反应堆可确保大多数半导体工艺的重复和可靠的处理结果。