二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X #9293599 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP Ultima X Reactor是一种创新的化学气相沉积（CVD）设备，旨在提供对工艺环境的超精确控制。它使用低压和低温蚀刻沉积方法沉积原型半导体薄膜，通常用于制造复杂的多层结构和纳米级器件。UltimaX具有卓越的反应性和均匀性,可提高通量和产量。AP Ultima X反应堆能够生产厚度高达五微米的薄膜，同时保持精确的工艺控制。该系统的智能硬件和软件设计旨在优化温度、压力和气流,以及化学前体和反应组件,以产生理想的薄膜结构。这个先进的反应堆单元具有大的单室设计，其中包括一个四区气相沉积机。它允许在各自的沉积区同时使用多达四种不同的前体。Ultima X反应堆还包括用于沉积过程控制的锁载工具，以及机械快门和惰性技术。高级控制资产提供实时实验和慢跑，以及对整个过程的全面监控。它还配备了扫描电子显微镜，用于高精度测量薄膜沉积厚度和均匀性。此功能可同时监控关键工艺参数,如气流、温度和压力。Ultima X的燃烧火焰可以支持高斯分布的和否则各向同性的火焰性质。反应堆还设有负载锁和集成的质量流控制器，用于装入和出室。Ultima X的双室模型允许两层膜同时沉积，以减少工艺时间，提高整体效率。它还提供了一个先进的安全模块，以防止危险材料过度暴露。最后,AMAT Centura AP Ultima X反应器是一种高度通用、高效的化学气相沉积设备.凭借先进的温度、压力和气流控制能力，它提供了精密的薄膜和纳米级结构，同时也保持了高水平的安全性。除了高精度和高质量外，反应堆还具有多种特点和优点，使其成为高批量、高质量生产的一个有吸引力的选择。