二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP #9364673 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP是一种化学气相沉积（CVD）反应器，为包括半导体、导体、电介质、III-V材料和Si/SiO2薄膜在内的多种材料设计。该反应堆以具有成本效益的价格提供了出色的工艺控制和可重复性。AMAT Centura AP反应器包括双室设计和石英管，其中加热前体材料诱导化学反应。然后将加热的前体材料与试剂气体反应，在底物上产生所需的薄膜。反应堆有一条加热气体管线，允许供应调节和安全的前体材料、一条试剂气体供应线和一条带废气管线的真空泵。反应堆具有广泛的工作温度范围和压力要求，这使得它非常适合应用于多个晶体取向，如（100）和（111）的Si基板表面。APPLIED MATERIALS Centura AP的高吞吐量使其适合大容量应用。反应堆配有多级工艺控制软件，允许对气体和温度流动进行精确控制，同时能够在整个过程中维持所需的条件。软件界面为执行实验或生产运行提供了易用性、灵活性和可重复性。Centura AP在设计上是模块化的,它利用负载锁定模块,可以快速轻松地加载和传输基板。它具有广泛的前体，其中包括元素前体（SiH4、PH3、B2H6）以及有机金属前体（propargyl、butyllithium和trimethylgallium），但它也具有与其他化学前体一起使用的能力。该反应堆能够通过调整自动化和工艺来实现每秒几十埃到微米的增长率。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP维护水平低,是一种用户友好型设计,具有多种安全功能。反应堆操作简单，可定制以满足特定要求。反应堆设计的鲁棒性使其适合长期、可靠的制造环境运行。