二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura CVD #293817404 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura CVD（化学气相沉积）反应器是一种真空工艺，旨在将多种材料的薄膜沉积到多种基板上。AMAT Centura CVD由高温反应室、气体管理设备、温度控制系统和颗粒去除单元组成。高温反应室设计用于沉积薄膜，并附着在以下一种或多种前体上：硅烷、二硅烷、硫化氢、二氯硅烷、氯氧化磷、三氯化砷、氙和氮。沉积膜可用于多种应用，如半导体器件制造、数据存储介质制造和光电子制造。APPLIED MATERIALS Centura CVD的气体管理机设计为以受控方式以正确的比例将选定的前体输送至反应室，以达到所需的薄膜组成。气体管理工具还设计用于控制每个前体的确切输送速率，包括流速和压力，以及反应室内的总压力。此外，它还能够控制惰性气体的流动，例如，用于控制反应室内温度的氙气或氮气。Centura CVD的温度控制资产配置为将反应室内的温度保持在工艺要求的指定公差范围内。此模型控制薄膜沉积前、沉积期间和沉积后的温度,从而可以精确控制工艺参数。另外，温度控制设备配置为监测晶片基板和沉积膜的温度，以便于最佳生长。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura CVD的颗粒去除系统设计用于清除沉积过程中产生的任何颗粒。这有助于确保底物上薄膜的高质量生长。除粒装置利用附着在反应室中的原位真空，连续抽出沉积过程产生的任何气体或固体污染物。该机器还包括高效的过滤工具和耐腐蚀材料，以防止颗粒积聚和污染资产。AMAT Centura CVD是一种极好的沉积模型,它能精确控制沉积过程,并在基板上形成高质量的沉积膜,是任何薄膜沉积应用的理想工具。
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