二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DLH #9093318 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DLH是一种PECVD（等离子体增强化学气相沉积）反应器，在工业上用于薄膜沉积。该反应堆用途广泛，利用感应耦合等离子体（ICP）源在生产环境中实现多种材料的高速率沉积。PECVD工艺被用于许多先进的半导体和微电子应用，如用于光伏应用的薄膜沉积、介电应用、金属化、敏化层、保护涂层和图案聚合物。PECVD工艺利用溷合气体与AMAT Centura DLH等设备沉积薄膜。反应堆由一个射频发电机组成，该发电机向等离子体源发电。反应堆内的等离子体源用于产生电离过程，帮助气体分子分解反应。然后这个过程在基板上产生沉积层。系统中使用的电源是RF（射频）和DC（直流电）。等离子体产生的射频频率和功率通常是13.56MHZ和250W的。产生的等离子体功率是可变的，可以根据所需的材料沉积进行调整。对于薄膜的快速沉积，可以使用更高的功率，但必须以受控的方式处理，以防止对腔室造成任何损害。应用材料Centura DLH反应堆还安装了气体质量流量控制器（GFMCs）,可以准确控制所使用的气体水平。这些气体应在系统内进行调整，以达到所需的材料沉积速率。Centura DLH在RF发生器内也有一个加热区，可以使温度达400 °C达到。该温度可用于控制正在生产的薄膜的反应速率和沉积厚度。AMAT/APPLICED MATERIALS Centura DLH的总体设计非常可靠,在多次通过时均能产生一致的结果。该腔室的设计具有低功耗、运行成本和维护要求，在生产介电和厚膜方面效率高。AMAT Centura DLH也是一个全自动的实时监控设备，它允许监控过程参数并进行必要的调整以获得最佳性能。总之，APPLIED MATERIALS Centura DLH是一种可靠且用途广泛的PECVD反应器，可以在生产水平环境下生产介电和厚膜。反应堆利用射频电源来产生等离子体，还具有调节GCM来控制使用的气体水平。反应堆耗电量低，运行成本低，是微电子工业经济高效的工具。Centura DLH还具有自动实时监控功能,可实现最佳性能和可靠的结果。