二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura (DPN+) #9174570 待售

AMAT Centura （DPN+）是一种反应堆，设计用于在单晶片和批量加工中提供高性能的反应性离子蚀刻和薄膜沉积。反应堆的设计目的是使加工能力能够解决制造和沉积敏感和高度规格材料（如III-V装置制造）方面的挑战。反应堆有一个先进的控制器，允许用户访问新的先进功能，如广域均匀性、高等离子体密度和高能量进行蚀刻。通过使用标准的多通道源进一步提高了设备的横向均匀性。APPLIED MATERIALS Centura （DPN+）反应堆采用模块化设计,使用户能够自定义系统以满足其特定的工艺需求。反应堆上的控制单元设计为跟踪机器的性能，以保持最佳的整体刀具性能。反应堆还利用先进的诊断，使工艺工程师能够监测工艺参数，以确保蚀刻速率和其他工艺要求得到满足。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura （DPN+）能够对静电卡盘压力（ESP）和温度剂量实现非常精确的控制。该单元还提供多个脉冲选项,允许调整工艺参数以优化蚀刻速率。脉冲技术具有单脉冲和多脉冲等多种脉冲选择，在运行反应性离子蚀刻时能够实现更高的蚀刻速率和更好的过程控制。此外,AMAT Centura （DPN+）还配备了高级控制器,可控制蚀刻室的温度和压力,以及监控和调整工艺参数的能力。这允许用户设置工艺参数并确保蚀刻速率和其他工艺要求得到满足。与传统的射频蚀刻工具相比，获得专利的双磁控管还能提高离子利用效率，减少污染。此外,APPLIED MATERIALS Centura （DPN+）还提供了扩展反应堆资产的灵活性,方法是添加更多组件以增加容量,从而使用户能够创建高度可配置的模型。有了一系列的多用途配件和额外的工具，用户可以将反应堆整合到他们现有的生产线中。总体而言,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura （DPN+）反应堆提供了一种经济高效且可靠的解决方桉,可确保正确的工艺性能,同时满足开发和制造新材料和设备所需的严格要求。该装置具有先进的控制、高性能的特点和广泛的能力，便于精确控制和准确处理蚀刻过程，并确保过程的稳定性、可重复性和可重复性。