二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPN #9176407 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPN是一种低压a.c.底部负载沉积/蚀刻反应室，设计用于半导体和集成电路制造中的多种沉积和蚀刻过程。膜覆盖的石英反应室配备了三个电压峰值14 KV电源，能够产生两种类型的血浆。这两种等离子体模式是常规的感应耦合等离子体模式（ICP）和直接耦合等离子体模式（DCP）。AMAT Centura DPN的结构设计提供了出色的均匀性和出色的负载卸载重复性。该腔室旨在最大限度地减少颗粒、废水的发生，并提高可靠性。标配了具有机械性质的数字压力控制器和辅助设备。腔室设计还允许在所有基板转移操作和由于内置维护控制台而进行的所有维护操作中轻松访问基板。应用材料CENTURA （DPN）具有两种不同类型的气源：统一气源和离散气源。统一供气采用RegAuto阀，无论底物如何，所有气体都具有极好的重复性和最小的过程漂移。离散气体供应提供了对所有源输入的精确控制，并提供了广泛的动态反应可能性。AMAT CENTURA （DPN）为用户提供对所有工艺输入（气流、射频功率、基板温度、压力等）的最佳控制。此外,系统还具有一个自我诊断软件,该软件可监视系统的运行状况,并在故障成为进程问题之前识别出故障。Centura DPN能够进行各种各样的蚀刻和沉积过程，包括BOE（缓冲氧化物蚀刻）、各向同性蚀刻、BOE-etch、RIE（反应性离子蚀刻）和CVD（化学气相沉积）。随附的软件包为用户提供了易于使用的控制和自动化功能,从而提供了复杂的配方和快速的结果时间。最后，CENTURA （DPN）反应器为半导体和集成电路制造的蚀刻和沉积过程提供了一个用户友好、可靠和精确的系统。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA （DPN）提供可靠的重复性和卓越的一致性,使客户能够实现对其工艺参数的最佳控制并获得所需的结果。