二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPN #9399901 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPN是一种高性能的集成蚀刻/沉积反应堆设备,结合了蚀刻和沉积技术的最新进展。这使工程师能够创建高度定制的结构，如多介电双介电膜、MEMS （Micro Electro-Mechanical Systems）设备、超低k介电膜和光波导。该系统专为高容量、高性能环境设计，适用于内存和逻辑器件、3-D集成电路组件、功率放大器、集成显示电路和光学传感器等广泛应用。AMAT Centura DPN的离心泵可以容纳精度最高、杂质降解风险最低的材料。该装置具有独特的基于快门的装载机，可以装载多种蚀刻/沉积材料，并在它们之间进行切换，以获得最佳的工艺性能。APPLIED MATERIALS CENTURA （DPN）包括四个安装位置,使用户能够精确控制材料的装载和卸载位置,以便精确地给定目标蚀刻/沉积参数。该工具能够提供高达10 μ m的各种材料的精确反应性离子蚀刻（RIE）。该资产具有实时RIE压力反馈，允许在整个过程中精确控制EBSD参数，对蚀刻气体进行精确温度控制，对整个基板的温度均匀性进行精确控制，对蚀刻沉积副产品进行精确控制。CENTURA （DPN）还允许同时使用两种不同的蚀刻/沉积气体,从而可以精确控制最终薄膜的最终蚀刻/沉积特性。Centura DPN的其他功能包括：易于使用的图形界面,能够精确控制整个过程,以及对性能进行模型监控,以确保在所有蚀刻/沉积条件下均具有最佳性能。该设备采用高性能多变量分析，可精确控制生长、耐火和封盖层参数。APPLIED MATERIALS Centura DPN提供对整个沉积和蚀刻过程的完全控制,从材料的装卸到完全控制材料的蚀刻/沉积参数和后处理。最后，该系统能够实现多个蚀刻和沉积过程的自动化，从而无需操作员切换和溷合材料蚀刻/沉积条件。