二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9379818 待售

ID: 9379818
晶圆大小: 12"
优质的: 2010
Etcher, 12" (3) Mesa chambers Axiom chamber 2010 vintage.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5反应堆是一种用于半导体制造过程的蚀刻室。该设备旨在支持各种蚀刻和沉积应用,为众多基材提供高通量和均匀性。其独特的设计提供了最大的灵活性和可扩展性,使其能够有效地处理独一无二的设计或原型设计,同时保持与行业标准流程的兼容性。AMAT Centura DPS G5反应堆由两个不同的组件组成:腔室和腔室控制器.腔室由水平安装在铝制车身内的石英圆筒组成,支撑温度均匀性和活性组件。腔内为圆柱形电极,容纳基板。腔室控制器对腔室组件提供实时闭环控制/和反馈,允许精确控制基板温度、压力、流量和射频功率。为了满足这些精确的控制要求,G5反应堆配备了涡轮驱动的燃气分级系统和数字温压控制器。气体输送装置采用了不同压力驱动的分级技术,以确保最优的原子/分子通量和室内的均匀环境。这样可以提高处理速度,同时保持出色的一致性。此外,压力控制器监测和调整室内压力,以尽量减少外部源污染的风险。最后,G5反应堆能够支持各种射频功率选项,从200kHz-1.7GHz开始,允许广泛的动态蚀刻能力。G5反应堆为基板和工艺气体的均匀性提供了全面的均匀性控制。G5反应堆具有高度的均匀性和对温度、压力、流量和射频功率的精确控制,是许多半导体制造和沉积过程的理想机器,如溅射沉积、等离子体蚀刻和化学气相沉积。其强大的设计和处理环境条件变化的能力使其成为工程和研究环境的理想选择。由于其优化的能力,APPLIED MATERIALS Centura DPS G5反应堆非常适合各种高容量、高精度的工艺,是现代半导体制造实验室武器库中的绝佳武器。
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