二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9383829 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA是一种在半导体晶片製造过程中设计用于将金属氧化物半导体沉积到硅晶片的反应器。反应堆有一个以改良超临界离子辅助沉积（SIAD）技术建造的腔室。该工艺用于将厚度均匀的保形涂层沉积在晶片或基板上，而不会造成过量的颗粒污染。该腔室配有石英组件的电源、电源和可塑性的crucibles，以提供高精度的热控制。AMAT Centura DPS G5 MESAMakes的工艺使用了依赖时间的等离子体源来实现高质量薄膜的精确沉积。这个过程使用氧等离子体，通常产生在400瓦，沉积一个二氧化硅薄膜到晶圆的表面。这种沉积之后是高密度溅射，这样可以添加额外的金属。溅射加速了氧化物和金属颗粒从基板上的传输。该工艺能够控制导电半导体层的类型、厚度和组成。AMAT Centura DPS G5 MESA的外部是一个侧面面板,允许用户监控生成的等离子体,以确保设置参数和最佳增长率内的准确性。该装置还具有高可靠性的浸没式气体供应，将压力控制的氧气注入室内，以更好地控制膜的均匀性。包括温度传感器、氧气传感器和压力传感器在内的各种传感器能够对过程进行更精确和可重复的控制。APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA的创新设计使其成为同时跨多个工艺站精确一致沉积的理想选择。该系统得益于精确的射频调谐，使用户能够调整以获得更好的胶片均匀性和胶片沉积速率。它还提供内部过滤，以防止工艺污染物进入腔室。用户可以控制和监视流程的各个方面,以确保获得最佳效果。Centura DPS G5 MESA是一种高效可靠的反应器，用于将金属氧化物半导体沉积到硅片上。反应堆具有专利的SIAD腔室设计、用于监测等离子体产生的侧板、可靠的气体供应、各种传感器以及精确的射频调谐，允许用户产生精确的薄膜和可预测的结果。