二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9383831 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA
ID: 9383831
Etcher (3) Mesa chambers Axiom chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA是一种高性能物理气相沉积(PVD)设备,设计用于钨屏障和接触应用。该系统使金属触点、低k介电膜、耐火金属氮化物和氧化物屏障层等先进半导体器件的生产成为可能。该装置具有先进的性能,为薄膜结构和应力提供了最佳的均匀性和可重复性,从而有助于提高工艺产量。AMAT Centura DPS G5 MESA包含具有多区域技术的高度先进的真空室。它具有先进的热管理设计,可实现低于1 ppm的目标气体沉积速率。该机器采用单一的集成刀具体系结构,可实现最大吞吐量,同时确保可重复性。此外,拥有成本低的概念,只有三个部件,没有额外的气体或供暖要求。DPS G5 MESA利用多个磁控管创建了一个五区横向扩散屏蔽(LDS),可配置为优化薄膜均匀性、沉积速率和薄膜应力状态。资产还配备了一个原位性能单元和一个沉积监测模型,可以进行良好的过程控制。APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA为制造先进半导体器件提供了高速、经济高效的解决方桉。该设备可实现单插槽和双插槽沉积过程,从而提高生产率。该系统还提供了良好的温度控制,有助于保持所需的沉积速率和薄膜均匀性。其多区热管理能力确保腔室和目标的温度保持稳定,从而提高了工艺的可重复性。先进的LDS设计提供了坚固的均匀性和改进的胶片可重复性。Centura DPS G5 MESA为制造先进半导体器件提供了准确、高效的屏障和接触沉积工艺。该单元结合了尖端技术,提供了更好的吞吐量、更高的统一性和更好的整体过程控制。其先进的LDS设计确保了均匀的薄膜形成,其集成的性能单元和沉积监测机能够准确控制沉积过程。此工具是制造先进半导体器件的经济高效的解决方桉,可在批量生产中提供一致、可重复的性能。
还没有评论