二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA #9411952 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 MESA是一种多室高温等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器。它旨在提高半导体制造等高温高压工艺的效率和可靠性。该反应器设计用于在温度低于950°C到室温的情况下沉积硅和其他材料层，同时分别使用高压和低压等离子体。反应堆采用同时三室配置，允许按顺序处理多个晶片或基板。它还配有一个自动排气熄火系统，以确保过程的稳定性，并配有一个微型负载锁，能够对多个晶片进行装卸。反应堆使用微波功率，施加在顶层甲板上，带有安装在2英寸转盘上的磁控管，射频（RF）功率通过连接反应堆下层甲板的酸性质量载荷线（MLL）指向基板。反应堆有四重频率发生器，提供13.56 MHz至60 MHz的功率，以及三重源气体输送系统，有一个标准的四阀源气箱用于蚀刻过程，三个独立源用于反应物气体。该反应器还能够在沉积过程中利用氮和氧的端点检测（EPD），对过程端点提供更好的控制，并允许以更高的精度进行沉积操作。反应堆室采用304不锈钢建造，内壁和底座分别涂有耐磨陶瓷和熔融二氧化硅绝缘体。在腔室的上部安装了冷却淋浴板，以提供工艺气体的均匀冷却，可移动的顶板允许方便地进入腔室进行维护和制造。此外,两个石英视图允许查看该过程。AMAT Centura DPS G5 MESA反应堆是为极精确的沉积过程而设计的，在半导体工业中因其提高的性能和可靠性而有着公认的往绩。它能够在>950°C到室温的温度下生产高质量的硅、铝等材料层，适用于高-k、低-k电介质、金属栅极堆栈等应用。此外，它还提供了一种经济高效的沉积层的方法，使得能够制造各种半导体器件。