二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5 #9188280 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS G5
ID: 9188280
晶圆大小: 12"
优质的: 2016
Etcher, 12" Process: Poly 2016 vintage.
AMAT CenturaTM DPS G5是一种革命性的PVD反应器,旨在进行各种薄膜沉积过程。该反应堆为连续膜、衬里膜或多种材料的交替层的沉积提供了卓越的工艺能力和生产率。它可以用于多种应用,如硬掩码和蚀刻阻止层、屏障和扩散层以及反射层。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS G5反应堆基于传统的DPS技术。这种设备提供了一个比其他反应堆更坚固可靠的平台,并且具有高达250⅙晶圆输入的高吞吐量。该反应堆的设计目的是减少循环时间,并最大限度地减少每个循环的金属损失,提供更具成本效益的解决方桉。它配备了工艺室和气体输送系统,以及控制工艺参数的先进机械、电气和软件系统。该反应器具有高性能、数字化、直流电源、高控制稳定性和可重复性,对于可靠的薄膜沉积至关重要。它还配备了一个易于使用、用户友好、PC接口、单色控制的系统,带有三维旋转级,用于目标源定位。这允许精确的目标方向,以最佳的膜均匀性和保形覆盖沿晶片的所有表面。反应堆还提供了广泛的工艺室,以适应各种工艺应用。这些腔室由不锈钢容器构成,可选择单顶或双顶,并采用石英钟形罐技术,以尽量减少先前蒸发的分子和颗粒的重新沉积。该单元还支持基板预热和冷却的各种加热和冷却选项,以提高吞吐量、均匀性和产量。反应堆以几种工艺气体运行,以达到特定的薄膜性能。它包括一个全自动和可编程的气体输送机器,能够支持多达八种反应性气体和多达四种惰性气体。腔室的压力控制是不断可调、高效管理的,以保持最佳工艺条件。AMAT Centura DPS G5提供集成的原位和异位计量,用于过程控制和优化。此工具完全与数字兼容,允许远程访问以更好地控制资产状态,并促进更高效的工作流。
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