二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS I #9116831 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS I是一个单晶片反应器，设计用于低温半导体和器件应用的高性能扩散和氧化过程。该反应堆采用创新的双渗透气体输送设备，以确保最优均匀性、总质量传输和对工艺参数的精确控制。创建该平台的目的是简化工作负载,同时保持所需的产量。AMAT Centura DPS I反应器外壳和腔室系统是由不锈钢构成的，没有来自基本工艺部件的电流接触。Centura单元的尺寸测量总宽度为950毫米，总高度为796毫米，总深度为959毫米。APPLIED MATERIALS Centura DPS I的内部腔室总尺寸为505 mm,长度为610 mm。反应堆的腔室在560°C和6 x 10-4 Torr测量。机器的总载荷容量包括晶圆盒20公斤，最大载荷均匀度± 0.3 °C。Centura DPS I旨在进一步优化用户的便利性,包括双淋浴头质量传输、可配置区域功能、高级气体清除模式、Process Manager软件、轻松处理维护和真空过程监视器。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS I反应堆装有正在申请专利的双喷头质量运输工具，该工具在Centura反应堆运行期间向每个喷头供应单独控制的气流。这种二合一气流资产通过在每一个向下的雨水头提供精确控制和相等的反应性气体总质量传输，实现了过程的均匀性。AMAT Centura DPS I反应堆还具有可配置的区域功能，通过允许操作员设置最多三个独立的气体流区，数字显示每个单独区域的温度、流量和压力设置，进一步增强了过程程序。先进的气体净化模式可以提高精度,缩短净化时间,提高热一致性.Process Manager软件使用户界面的控制更容易、更直观,允许创建和操作配方,而无需重新编码。真空过程监视器利用先进的发电机通过实时监控来测量整个过程中的真空,从而确保过程结果是一致的。此外，EasyProcessingMaintenance及其机载诊断使操作员能够轻松诊断和排除反应堆问题。APPLIED MATERIALS Centura DPS I是一种功能强大的单晶圆反应器，设计用于低温半导体和器件应用的高精度扩散和氧化过程。Centura DPS I反应器具有双渗透气体输送模型、可配置区域功能和先进的气体净化模式,能够提供精确控制和统一的工艺参数,最大限度地提高用户的便利性和收率。