二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS I #9358215 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS I是一种化学隔离、高性能的沉积和蚀刻反应堆设备，旨在简化先进微电子器件的制造。该系统实现了复合半导体材料的高通量和可靠的外延生长。它结合了原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）工艺在单个单元中的优点，给最终用户无与伦比的蚀刻和沉积控制。该机具有先进的工艺控制和计量模块，保证了复杂设备结构在先进基板上的精确重复制造。AMAT Centura DPS I是为快速热处理、原子层沉积和化学气相沉积应用而构建的。该平台具有广泛的工艺能力,其多功能性使其非常适合制造各种微电子设备,包括内存、逻辑和类似电源的设备。该工具利用有效的传送机制同时支持多种配方的执行，使其成为大批量生产的理想选择。应用材料Centura DPS I反应器具有垂直排列的反作用室（RFV），容积高达8升。它由六块电路板组成,每块电路板使用模块化体系结构相互连接,该体系结构旨在简化资产和流程维护。整个模型被封闭在密封环境中，可以调整以适应高达170°C的温度和小于1.5 mTorr的减压。反应堆有一个集成的质量流控制器（MFC），由使用分布式智能操作的智能设备级控制系统提供动力。这使得反应堆能够在广阔的温度范围内实现精确的热控制，可达到的最低步骤小至10毫克/分钟。该单元还提供了可编程脉冲模式和集成的智能Q控制设计，用于无与伦比的蚀刻过程控制。反应堆机还使用了双室气体遮蔽清洗工具，在保护基板的同时提供对蚀刻/沉积表面的高均匀性控制。资产的高级软件还为用户提供晶圆映射功能、预测Q控制以及从负载端口到加载端口的自动晶圆跟踪。Centura DPS I是一个令人振奋的工具,它使用户能够提高芯片性能和效率,并提供一流的产量。该模型具有可重复、可靠、均匀的沉积和蚀刻能力，已被证明是芯片制造设施和晶片规模生产的宝贵资产。