二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Poly G3 #9195071 待售

ID: 9195071
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
Poly etcher, 12" (3) Process chambers Factory interface configuration Front end PC type: 4.0 FEPC FIC PC Type: CPCI (3) Load ports A3 Type: Atmospheric robot KAWASAKI single fixed robot Side storage: Right and left Mainframe configuration IPUP Type: ALCATEL A100L Gas panel type: Standard VHP Robot: Dual blade MF PC Type: CL7 Chamber configuration: Chamber A: Chamber model: DPS II Poly Bias gen: AE APEX 1513, 13.56 MHz Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kv navigation Source gen: AE APEX 3013, 13.56 MHz Source match: AE 13.56 MHz, 6 kv navigation Turbo pump: STP-A2503PV Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320 FRC: MKS FRCA-52163310 ESC: Dual zone ceramic ESC End point type: EyeD IEP Chamber B / C: Chamber model: DPS II Poly Bias gen: AE APEX 1513, 13.56 MHz Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kv navigation Source gen: AE APEX 3013, 13.56 MHz Source match: AE 13.56 MHz, 6 kv navigation Turbo pump: STP-A3003CV Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320 FRC: MKS FRCA-52163310 ESC: Dual zone ceramic ESC End point type: EyeD IEP Missing parts: AXIOM Chamber RF Source VODM Throttle valve 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II AE Poly G3是一种高度先进的等离子体蚀刻反应器,设计用于半导体工业。该反应堆特别适合于涉及500 nm以下高长宽比特性的工艺,因此非常适合最现代芯片设计的需求。该反应堆是Centura DPS II系列的一部分,采用模块化设计,使其能够满足流程优化带来的各种应用。反应堆包含一个WF-loadable容器,这意味着可以支持各种选项,例如非标准晶圆尺寸或石英方向。该反应堆采用先进的AMAT Endura 5500动力输送系统,性能卓越,控制精确,均匀性高。这使客户能够在每批产品中实现高蚀刻率和出色的结果重复性。电力输送系统还具有多频灵活性,用户可以根据自己的特定需求进行调整。反应堆具有硅基栅极兼容性,符合300 mm标准,适合多种芯片设计。它还采用集成泵和气体分析仪系统等高级功能进行设计,以最大限度地提高性能和运行效率,从而确保可以优化过程窗口以达到最高产量。反应堆有几个选项和功能,如基板卡盘,可选的源灯和等离子体监测系统。它还具有内置的安全机制,以确保始终保持最佳安全和生产力。AMAT Centura DPS II AE Poly G3是一种高度先进和可靠的反应堆,旨在满足半导体行业的需求。它提供卓越的性能和灵活性,并具有为满足特定应用程序要求而量身定制的模块化设计。适用于从500 nm以下特性到300 mm芯片的设计。这使得它成为各类半导体应用的绝佳选择。
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