二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #293607532 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是一种多频快速热处理（RTP）反应器，专为高性能、高度集成的半导体晶圆应用而设计。该设备为要求最苛刻的应用程序提供卓越的温度均匀性和可靠性。它具有高温反应室、水平气流输送系统和动态温度控制单元，以确保最佳处理温度。AMAT Centura DPS II是一种用途广泛的工具，用于广泛的应用，包括沉积、氧化、扩散、退火和外延。应用材料CENTURA DPS+II由高温反应室和动态温度控制机两部分组成。反应室可达到100 °C至1100 °C的温度，设计用于高温晶圆反应。此外，反应室采用隔离导热工具，以确保室内温度的均匀性。DPS II还具有水平气流输送资产,通过反应室提供高流量（最多200 spm）的气体颗粒,以确保整个过程的反应条件一致。动态温度控制模型允许精确的温度控制，以确保最佳的过程结果。每个晶片的温度可以实时调整，以确保结果一致。此外，该设备还配备了一种高频火花，可进行次秒温度处理。这对于复杂的过程很重要,并将由于处理时间延长而产生不希望的结果的可能性降至最低。Centura DPS II非常适合要求绝对控制温度、均匀性和速度的应用。该系统非常适合各种工艺，包括沉积、氧化、扩散、退火和外延，是各种先进半导体工艺的理想解决方桉。AMAT CENTURA DPS+II是针对高性能、集成半导体应用的高度可靠、可定制且经济高效的解决方桉。