二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #293705867 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是一种等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器，用于半导体工业中的薄膜和层的沉积，对均匀性和共形性有精确的控制。DPS II反应器利用射频（RF）激发和微波等离子体生成来精确控制沉积速率、保形性和均匀性。这允许了各种各样的半导体应用，包括先进的器件结构如晶体管、RAM和互连。DPS II反应堆由一个密封室组成，该密封室容纳一个端装式气体分配系统。端置气体分配系统由气体喷射口、排气口、加热器组成。气体通过气体注入口注入腔内，通过一系列挡板均匀分布在整个腔内。射频和微波功率的组合被提供给充满气体的腔室，以产生高密度的等离子体，用于将所需的膜或层沉积到工艺晶片上。DPS II反应堆还设有偏置点发生器。该装置提供可调节的直流偏置电压，可以调整以控制晶圆上沉积的轮廓和均匀性。另外，采用压力控制阀调节腔室压力，以实现最佳沉积。DPS II以其先进的射频、微波和偏置点发生器技术提供了出色的过程控制和一致性。它可用于沉积各种先进半导体结构的薄膜和层。末端气体分配系统也保证了沉积的均匀性。所有这些特性结合在一起，使DPS II成为先进半导体沉积工艺的绝佳选择。