二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9188294 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是一种先进的热高密度等离子体反应器。它旨在为一系列需要高能电子束的等离子体沉积过程提供高沉积速率，如外延、CVD、ALD和ALOx涂层等。AMAT Centura DPS II提供了最先进的物理和化学气相沉积能力。反应堆装有先进的多栅极电子源，允许均匀和非均匀分布，底物压力范围大。反应堆还设有一个独立的气流控制设备，最多支持七条单独的测试气线。APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+II配备了全自动腔室清洗过程,可快速高效地启动、关闭和减少停机时间。高效的表面处理过程包括自动气流监测器，以及多区域压力传感器。这允许与过程气体的沉积过程发生如氧、一氧化二氮、一氧化碳、氯和三氯硅烷。反应堆的控制和数据采集系统旨在提供过程监测和数据记录功能。此外，反应堆允许定制配方，以确保最佳热控制、均匀沉积和减少再沉积。该装置能够在柔性和刚性基板上提供最佳均匀性和沉积。这确保了在基板上各个区域的均匀沉积，并确保了最佳产量。AMAT CENTURA DPS+II反应堆装有惰性气体背面排气特性，最大限度地降低了底物污染和降解的风险。AMAT/APPLICED MATERIALS CENTURA DPS+II可用于广泛的应用,例如在半导体工业中创建薄膜以封装微电子器件。多区沉积机和广泛的沉积气体使研究人员能够取得显着的制造生产率和过程鲁棒性。该工具还配备了确保反应堆安全运行和避免危险过程的安全功能。