二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9213077 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II
反应器
製造商
AMAT / APPLIED MATERIALS
模型
Centura DPS II
ID: 9213077
Poly etchers Chamber A, B, C: Model: DPS II Bias generator: AE Apex 1513 13.56 MHz, maximum 1500 W Bias match: AE 13.56 MHz, 3 kV Navigate Source generator: AE Apex 3013 13.56 MHz, maximum 3000 W Source match: AE 13.56 MHz, 6 kV Navigation Lid: Ceramic lid, dual gas nozzle Turbo pump: EDWARDS STP-A3003 CV Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320 FRC: MKS FRCA-52163310, 500/500 1/4 VCR ESC: Dual zone ceramic ESC Cathode chiller: SMC POU Wall chiller: SMC INR-496-016C Process kit coating: Anodize coating Cooling: HT 200 / FC 40 Chamber D: Model: Axiom Source generator: 5000W Source match: AE Match (RF System) Throttle valve: Throttling gate valve ESC: Pedestal heater Mainframe configuration: IPUP Type: TOYOTA 100L Gas panel type: NextGen VHP Robot: Dual blade MF PC type: CPCI Factory interface configuration: Frontend PC type: 306 M Server FIC PC Type: 306 M Server (3) Load ports Atmospheric robot: KAWASAKI Single fixed robot (A3 Type) Side storage: Right and left side MFC Configuration: EAS-52A Gas name Max flow MFC type Gas 1 CL2 300 SC-24 Gas 2 NF3 50 SC-23 Gas 3 SF6 100 SC-24 Gas 4 HBR 500 SC-24 Gas 5 N2_20 20 SC-21 Gas 6 N2_200 200 SC-23 Gas 7 O2_50 20 SC-22 Gas 8 O2_400 400 SC-24 Gas 9 HE 500 SC-24 Gas 10 CHF3 200 SC-24 Gas 11 CF4 300 SC-24 Gas 12 AR 500 SC-24 EAS-52B Gas name Max flow MFC type Gas 1 CL2 300 SC-24 Gas 2 NF3 50 SC-23 Gas 3 SF6 100 SC-24 Gas 4 HBR 500 SC-24 Gas 5 N2_20 20 SC-21 Gas 6 N2_200 200 SC-23 Gas 7 O2_50 20 SC-22 Gas 8 O2_400 400 SC-24 Gas 9 HE 500 SC-24 Gas 10 CHF3 200 SC-24 Gas 11 CF4 300 SC-24 Gas 12 AR 500 SC-24 EAS-52C Gas name Max flow MFC type Gas 1 CL2 300 SC-24 Gas 2 NF3 50 SC-23 Gas 3 SF6 100 SC-24 Gas 4 HBR 500 SC-24 Gas 5 N2_20 20 SC-21 Gas 6 N2_200 200 SC-23 Gas 7 O2_50 20 SC-22 Gas 8 O2_400 400 SC-24 Gas 9 HE 500 SC-24 Gas 10 CHF3 200 SC-24 Gas 11 CF4 300 SC-24 Gas 12 AR 500 SC-24 EAS-52D Gas name Max flow MFC type Gas 1 - - - Gas 2 - - - Gas 3 - - - Gas 4 - - - Gas 5 - - - Gas 6 - - - Gas 7 O2 10000 SC-27 Gas 8 4%H2/N2 5000 SC-26 Gas 9 - - - Gas 10 N2 1000 SC-25.
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是一种原位等离子体加工反应器设备，设计用于精密的等离子体辅助沉积和蚀刻操作。该系统提供先进设备制造所需的高精度热和等离子体控制。AMAT Centura DPS II从头开始构建,以提供可靠且可重复的过程结果。该装置可精确控制工艺参数，如温度、压力、射频功率、气流和溷合物。它是一个源掺杂的反作用室，它具有坚固的电源，允许在高功率和低功率设置之间无缝过渡。该机还具有一个用于控制基板温度的气冷基板支架，以及一个测量室内实时工艺条件的数字探头。APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+II也是一个直观的工具，可以实时编程和监控。RF功率和气流设置可以通过触摸屏图形界面进行调整，各种过程参数可以在整个过程中进行监控和记录。该资产还可以与PC或PLC集成以实现自动控制。APPLIED MATERIALS Centura DPS II是这些应用的强大工具,能够生产产量极高的设备,同时仍能保持出色的设备性能。该型号还提供了一系列先进的安全功能，包括超压警报和气体溷合监测器，以确保安全和受控操作。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+II具有简单的设置和用户友好的界面,是寻求精确过程控制和一致结果的用户的绝佳选择。
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