二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9213084 待售
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ID: 9213084
Metal etchers
Model
Channel A, B: DPS II
Channel C, D: AXIOM
Chamber A, B:
Model: DPSII metal
Bias generator: AE Apex 1513 13.56 MHz, maximum 1500 W
Bias match: AE 13.56 MHz,3 kV navigation
Source generator: AE APEX 3013 13.56 MHz, max 3000 W
Source match: AE 13.56 MHz, 6 kV navigation
Lid: Ceramic lid, single gas nozzle
Turbo pump: STP-A2503PV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-250
ESC: Dual zone ceramic ESC
Endpoint type: Monochromatic
Cathode chiller: SMC POU
Wall chiller: SMC INR-496-016C
Process kit coating: Anodize coating
Cooling: HT 200 / FC 40
Chamber C, D:
Model: ASP
Source generator: DAIHEN ATB-30B
Source match: DAIHEN SMA -3001
Throttle valve: Throttling gate valve
ESC: Pedestal heater
VODM
Mainframe configuration:
IPUP Type: ALCATEL A100L
Gas panel type: NextGen
VHP Robot: Dual blade
MF PC Type: CL7
Factory interface configuration:
Frontend PC type: 4.0 FEPC
FIC PC Type: CPCI
(3) Load ports
Atmospheric robot: YASKAWA Track robot
Side storage: Right side
MFC Configuration:
EWE-02A Gas name Max flow MFC type
Gas 1 BCL3 200 SC-24
Gas 2 NF3 100 SC-23
Gas 3 - - -
Gas 4 CL2 400 SC-24
Gas 5 C2H4/HE 400 -
Gas 6 SF6 200 SC-24
Gas 7 O2 100 AANGD40W1
Gas 8 CF4 100 AAPGD40W1
Gas 9 AR 400 SC-23
Gas 10 N2 50 SC-22
Gas 11 N2 300 SC-24
Gas 12 CHF3 50 SC-23
EWE-02B Gas Name Max flow MFC type
Gas 1 BCL3 200 SC-24
Gas 2 NF3 100 SC-23
Gas 3 - - -
Gas 4 CL2 400 SC-24
Gas 5 C2H4/HE 400 -
Gas 6 SF6 200 SC-24
Gas 7 O2 1000 SC-25
Gas 8 CF4 100 SC-23
Gas 9 AR 400 SC-23
Gas 10 N2 50 SC-22
Gas 11 N2 300 SC-24
Gas 12 CHF3 50 SC-23
EWE-02C Gas Name Max flow MFC type
Gas 7 O2 10000 SC-27
Gas 8 CF4 300 SC-24
Gas 9 - - -
Gas 10 N2 1000 SC-25
EWE-02D Gas Name Max flow MFC type
Gas 1 - - -
Gas 2 - - -
Gas 3 - - -
Gas 4 - - -
Gas 5 - - -
Gas 6 - - -
Gas 7 O2 10000 SC-27
Gas 8 CF4 300 SC-24
Gas 9 - - -
Gas 10 N2 1000 SC-25.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是一种模块化晶圆处理设备,用于半导体和光学行业的各种应用。它由两个主要部件组成,一个压板和一个反应堆室。压板是加工工具和晶片之间的接口,必须从系统中引入和移除。它便于将底物对准和放置到反应堆室内,以确保准确处理。它还包括晶片处理程序、光学后对准和浴液组件等功能,以进一步改善整个过程。反应堆室是机组的主要加工区域,设计用于适应多种反应条件。它包括一个加工室、压板传递臂、反作用室盖、进/出阀、排气口以及诸如远程等离子体源、自动GC和射频发生器等可选功能。反作用室盖为腔内加工提供了受控环境,允许对温度和压力进行精确控制。进/出阀作为压板和反应室之间的接口。它打开和关闭允许基板进入和离开腔室。排气口允许在处理过程中排出任何反应性气体。AMAT Centura DPS II提供了一系列优点,例如通过模块化方法提高了设计灵活性,增加了反应室盖的过程控制,改进了晶圆的处理和与压板的对齐。它还支持可重复的进程、更快的周期时间和更高的吞吐量。该机专为保持清洁的操作环境而设计,使其适合干式等离子体蚀刻工艺。总体而言,应用材料CENTURA DPS+II是一种可靠和用户友好的反应堆工具,可以配置为适应一系列应用。它的模块化设计使用户能够根据特定需求轻松调整设置,从而提供灵活性和控制性。资产可以提高吞吐量,提高产品收益率,减少制造时间和成本。
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