二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9257444 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II是一种强大的极高密度等离子体源（EHDP）反应器，设计用于执行原子层沉积（ALD）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）和低压化学气相沉积（LPCVD D）过程。该反应堆主要用于生产薄膜半导体器件，例如由介电材料和导电材料组成的集成电路和晶体管。反应堆具有两个等离子体生成系统--一个电感耦合等离子体源和一个磁性限制直流辉光放电源。ICP源用于材料的溅射（蚀刻），DCGD源用于薄膜在晶圆上的ICP增强沉积。反应堆的模块化设计可以方便地更换元件和灵活地选择加工参数。AMAT Centura DPS II为大批量生产运行提供高效、高吞吐量、低成本的处理。它具有先进的自动采样功能，可以提供样品的详细表征并实现工艺优化。此外,它还具有高功率驱动系统,可实现可重复和精确的胶片增长率。反应堆还具有多室设计，主室、泵房和预室，以便于维护和操作。每个腔室都配有自己的烹饪系统，可最大限度地减少气体排放，确保对温度和压力的高精度控制。反应堆还设有自动晶片装卸系统，可消除晶片的手动处理，减少污染或损坏的机会。反应堆被安置在10级洁净室中，为最佳薄膜生长或沉积提供低污染环境。住房还旨在降低能耗，最大限度地提高能效，从而长期节约成本。综上所述，APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+II是一种功能强大的EHDP源反应器，旨在使高容量、高精度的半导体器件得以生产。它的模块化设计在工艺选择上提供了灵活性，其先进的特性，如自动采样和晶片装卸，使得它甚至适合生产最先进的半导体器件。