二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II #9390588 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II反应堆是为半导体制造而设计的多区快速热反应堆系统。它用于从沉积到涂料活化、薄膜氧化到蚀刻等多种过程。DPS II在高温下运行,实现了快速热处理（RTP）,这是现代半导体制造中必不可少的一步。它可以在几秒钟内达到高达1150°C的温度，远高于传统的熔炉系统。因此,它允许严格控制纳米级的工艺条件,从而能够开发创新的高性能设备。DPS II的多区配置包括三个独立的加工区--一个集成的抗热敏感器、一个红外加热灯和一个氧化室。这种设计使工艺条件得到了更好的控制,并实现了较小的脚印和低成本操作。此外,几个独立的温度区域允许用户定义给定过程的最佳热剖面。该系统还具有自适应过程控制（APC）功能,这是一项专有技术,通过根据不断变化的工艺条件动态调整温度和压力剖面来确保统一处理。这将快速热处理（RTP）的不良副作用降至最低，例如砷分离、粒子污染和微结构量化。DPS II还利用先进的光学和光谱反馈系统使热剖面自动化，并实时优化工艺参数。这使用户能够快速定义最佳流程,并有助于确保高产量和产品质量。最后,DPS II也适用于复杂的过程集成和自动化。它利用标准和专有软件协议,以及各种接口选项,包括网络I/O和EtherCAT。这允许实时监测过程变量，并与外部系统集成，大大简化反应堆的运行，并允许最大的运行效率。