二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188285 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1是一种化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于在集成电路和器件上沉积超薄均质膜。该设备特别适用于需要精密和高质量薄膜的沉积应用。它具有多个独立的高真空室和一个双频射频电源，可以在大面积上实现最佳的过程控制和均匀性。系统的主腔室包含两个射频源，一个充当高频源，另一个充当低频源。低频源提供高能脉冲，使较厚层的沉积能够进行电路保护或减少高功率激光写入造成的伤害。两个源可以同时使用，在整个反应区域实现均匀沉积。腔室连接到一个石英敏感器，它能够支撑直径不超过12英寸的晶片。该机组配备先进的气控机，具有自动温压控制功能。这使用户能够精确控制沉积过程，确保材料的最佳汽化和沉积。该工具还配备了一个计算机控制的优化室，用于在整个工作区域内均匀地沉积。该腔室可装有一系列样品储存器，非常适合不同的应用。AMAT Centura DPS R1专为各种CVD薄膜而设计，包括硅、钨、钛、硅化物和铝。它也被用于沉积氮化物和氧化物层，使用不同气体注入系统的能力确保了最优膜特性。该资产适用于高速生产线以及实验室研究应用。该模型可以快速编程为各种配置。此外，它还具有多种安全功能，旨在确保操作员安全，非常适合生产环境。该设备还具有过程监测和调整机制，以确保最大效率和可靠性。