二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188290 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1
ID: 9188290
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
Etcher, 8" Process: Poly, metal etch 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1是一种下一代半导体生产反应堆,设计用于设备开发和制造。DPS R1是一种先进的高通量反应堆,设计用于在一个综合设备中进行沉积和蚀刻过程。反应堆将高效可靠的过程控制与广泛可靠的过程模块结合在一起,以实现最大程度的过程灵活性。AMAT Centura DPS R1非常适合先进的开发过程优化、设备开发和制造。该系统利用集成的工艺模块吊舱(PMP)允许各种处理选项和灵活性。利用PMP,反应堆可以在一个集成单元中进行沉积和蚀刻过程。反应堆还能够运行广泛的沉积和蚀刻应用,包括广泛的材料(Si、Ge、SiGe、GaAs、III-V、Nitrides、Poly-Si和Silicon-Nitride)。APPLIED MATERIALS Centura DPS R1旨在在尽可能短的周期内提供高速性能,同时实现最高级别的一致性和一致性。该反应堆还利用了获得专利的晶片到冷板温度控制功能,该功能为晶片提供快速、均匀的加热/冷却。这种独特的特性确保了快速、一致的反应时间,并防止沉积和蚀刻过程中的不均匀性。Centura DPS R1能够利用各种源气体,包括H2、Ar、Cl2、NF3、O2和XeF2。这种灵活性使反应堆能够在各种材料系统中为正面和背面过程执行各种沉积和蚀刻过程。此外,该机器在刀具配置方面提供了灵活性,包括单源或双源晶片处理以及单视场或大视区成像系统。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1是先进设备开发和半导体生产设施的理想资产。它非常可靠、快速、灵活,同时提供出色的效果。反应堆采用高度先进的工艺控制和高效的工艺模块组合,提供高度稳定、优化的工艺。该模型提供了其他OPC和EBR选项,以微调您的工艺参数并确保最佳设备性能。
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