二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188605 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1
ID: 9188605
晶圆大小: 8"
优质的: 2003
Etcher, 8" 2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1反应堆是为半导体工业设计开发的先进沉积设备。AMAT Centura DPS R1反应器能够生产用于微电子应用的化合物和氮化物的紫外线层。它的高级系统组件有助于最大限度地提高效率和过程可靠性,同时最大限度地降低过程成本。APPLIED MATERIALS Centura DPS R1反应堆由几个部件组成,如基板加热模块、一个平台和多个带有石英盖的石英管。组件的组合使设备能够提供一个平衡的环境,以适应广泛的材料沉积过程。平台允许根据工艺配置将工具排列成线性或径向设计。基板加热模块有助于确保基板表面的温度均匀,同时最大限度地减少基板和石英管之间的差异。石英管配有数字压力控制器和射频电源,以提供均匀、精确、可靠的沉积厚度。Centura DPS R1反应堆设计为提供快速、准确、一致的温度控制。此外,该机还配备了先进的热电偶检测工具,增强了对热冲击的保护。该资产采用多区域温度传感器进行精确控制,采用内置阻尼的主动夹紧机构,并采用快速循环启用模型。温度检测还可确保大面积的均匀沉积速率,并可加快温度的上升和冷却速度。该设备配备了高度可靠的真空和过滤系统,使其能够产生完美清洁和无尘的环境,以防止任何颗粒污染。这是通过多级过滤、主动冲洗和冷冻泵送实现的。该装置还具有高可靠性的低流量流量控制器(MFCs),以方便从符合要求的源以最小的色散精确输送气体。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1反应器非常适合涂层、氮化、氧化物沉积、扩散、CVD工艺和电镀等多种应用。该机高度灵活,可用于制造ULK、Metalization层、蚀刻止动层、金属间电介质等类似应用。AMAT Centura DPS R1还可以使用高级动力学过程控制功能提供创新和优化的过程配方。
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