二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #198321 待售

ID: 198321
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
Polysilicon etcher, 8" (3) Chambers Centura 1 mainframe Position A: DPS Poly R1 Position B: DPS Poly R1 Position D: DPS Poly R1 Position F: Orientor Narrow body load lock HP Robot NBLL's (2) Generator racks (1) System controller RF generators, RF55 Source RF Gen, RF20R Leybold mag drive L turbo controller Lid lift present 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS工具是一种生产规模和经过研究验证的化学气相沉积(CVD)反应器。该反应堆提供了一个先进的等离子体增强沉积平台,用于生产就绪的晶圆厂生产率水平的各种材料和应用。AMAT Centura DPS设备具有无与伦比的沉积能力,具有低压、创新的沉积室和等离子体发生器。沉积室压力可根据最佳工艺选择性进行调节,脉冲调制的可编程波形发生器可对独特的等离子体源进行精确调谐。作为一个额外的好处,该系统有能力支持反应性和非反应性过程,包括化学、原子层和物理蒸气沉积。APPLIED MATERIALS Centura DPS单元具有先进的多区域反应堆设计,具有多个可寻址平面。这提供了整个基板表面的统一过程,以及前所未有的特征重现性。反应堆的多功能性允许将电介质、半导体和金属沉积在广泛的基板尺寸上。Centura DPS机器采用先进的负载储物柜技术和真实的原位过程控制,确保了所有材料的准确沉积,并具有很高的可重复性。直观的图形用户界面允许操作员控制从沉积参数到气体流量和压力的整个过程。这样可以获得准确和可重复的结果。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS工具的高级工艺性能也针对更高的吞吐量进行了优化。此高级资产还支持远程模型控制和高级数据分析,为当今的现代生产环境提供了灵活性和更高的效率级别。AMAT Centura DPS设备的好处很多。该系统的多功能性、简洁性和吞吐量将提供一致的重复结果和更高的过程准确性。此外,该单元还提供超高真空水平,从而实现了工艺的最佳控制和可重复性。这样可以节省成本,同时实现最大产量和灵活性。
还没有评论