二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233293 待售
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ID: 9233293
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
Poly etcher, 8"
Mainframe: Centura Phase2
Chamber A, B & C:
DTCU: ES-DTCU
Gate & throttle valve: TGV, VAT
EDWARDS STP-A2203 Turbo pump
Pumping tube: Heated
ADVANCED ENERGY Altas 2012 Generator (Source)
ENI ACG-6B Generator (Bias)
ESC: Ceramic
EPD: IEP
Chamber F: Orieter
Xfer: HP Robot
L/L: Narrow, heated, tilt-out
Hoist: Local hoist
Gas panel:
Chamber A & C:
Gas / Size / Model
HBr / 200sccm / 8160
Cl2 / 200sccm / 8160
Cl2 / 50sccm / 8160
SF6 / 50sccm / 8160
N2 / 20sccm / 8160
Ar / 200sccm / 8160
CF4 / 100sccm / 8161
He / 20sccm / 8160
O2 / 100sccm / 8161C
Chamber B:
Gas / Size / Model
HBr / 200sccm / 8160
Cl2 / 200sccm / 8161C
Cl2 / 50sccm / 8160
SF6 / 50sccm / 8160
N2 / 20sccm / 8160
Ar / 200sccm / 8160
CF4 / 100sccm / 8161C
He / 20sccm / 8160
O2 / 100sccm / 8161C
Missing parts: Process chamber chiller & hose
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS+是一种最先进的反应堆，用于执行各种半导体制造工艺。它是一个介电沉积产品套件，为广泛的半导体器件应用提供快速准确的介电膜沉积。该设备能够在硅、石英、玻璃、聚酰亚胺等各种基板上产生钝化层。AMAT Centura DPS+的最大场尺寸为25平方英寸，最小剂量能力为1微安。其反应堆具有四象限旋转溅射构型，确保所有基板的均匀处理。该系统还配备了高速溅射源,能够达到高达1nm/s的采用率。这有助于提高设备的高吞吐量能力。该机还具有先进的热控制，可实现沉积过程的精确温度控制，从而产生更加均匀一致的结果。APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+还具有一套基于化学的清洁和预清洁功能,允许高效的晶圆处理。它还配备了触摸屏监视器，允许在处理周期内实时监控各种参数。该工具符合UNI-Core、SEMI和GCR等各种协议标准。它还具有ISO-9002认证,并以II级洁净室等级运行,确保在整个处理周期内取得一致和可靠的结果。Centura采用坚固、高耐腐蚀的不锈钢框架，确保在最恶劣的环境中使用寿命长、操作可靠。总体而言，CENTURA DPS+是一个坚固可靠的反应堆，旨在提供对各种半导体制造工艺的高通量和精确控制。适用于研究和工业应用，对工艺提供精确的温度和化学控制。Centura的规格令人印象深刻,是创建高质量和可靠设备的最佳工具之一。
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