二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233299 待售
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ID: 9233299
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
Poly etcher, 8"
Mainframe: Centura2
Chamber A, B & C:
DTCU: ES-DTCU
Gate & throttle valve: TGV, VAT
EDWARDS STP-A2203 Turbo pump
Pumping tube: Heated
ADVANCED ENERGY Altas 2012 Generator (Source)
ENI ACG-6B Generator (Bias)
ESC: Ceramic
Chamber D (ASP+):
Tuner: Auto tuner
Chamber E: Fast cool down
Chamber F: Orieter
Xfer: VHP
L/L: Narrow, heated, tilt-out
Hoist: Local hoist
Gas panel:
Chamber A, B & C:
Gas / Size / Model
Cl2 / 200sccm / 8161
HBr / 200sccm / 8160
Cl2 / 50sccm / 8160
NF3 / 100sccm / 8161
N2 / 20sccm / 8161
CF4 / 50sccm / 8161
SF6 / 50sccm / 8161
O2 / 100sccm / 8161
He / 20sccm / 8161
Ar / 200sccm / 8160
Missing parts:
Process chamber chiller & hose
(3) EPD
VDS
ASP+ Chamber:
Microwave generator
Gas panel
2000 vintage.
AMAT（应用材料/应用）材料AMAT/应用材料Centura DPS+反应堆是一种工业领先的中型PECVD（等离子体增强化学气相沉积）反应堆，用于薄膜的扩散和沉积。它是一种可缩放和自成一体的工具，用于半导体薄膜、金属、薄膜和其他材料的沉积。AMAT Centura DPS+的独特之处在于它能够提供一系列用户友好的主动气体和晶片加载配置。活性气体模块允许在给定压力下选择和使用更多的气体，从而使沉积过程更加有效和受控。此外,手动/自动加载选项可以根据需要在不同晶圆尺寸之间切换。这种功能组合使用户能够根据特定的设计要求快速调整和定制流程。APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+反应堆还具有产生等离子体的强大溷合聚类源。该源能够产生高密度、单调极化的等离子体，满足PECVD工艺的严密温度、压力和射频功率要求。这种溷合聚类源利用一种自一致的数学技术来生成等离子体，从而最大程度地减少闪过的可能性，并确保目标基板的覆盖一致。APPLIED MATERIALS Centura DPS+还具有复杂的诊断套件,能够准确监控所有关键过程参数。此诊断程序套件可用于确认所有流程参数均符合规格,并且沉积流程正在正常运行。诊断套件包括射频级、晶圆温度、沉积速率、源功率、压力和等离子体分布测量。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS+是一种用途广泛且易于使用的反应堆,能够提供可靠且可重复的过程控制。它使用户能够选择、定制和控制薄膜、金属和其他材料的沉积。它结合了强大的溷合群集源、用户友好的主动气体和晶片加载配置,以及复杂的诊断套件,非常适合跨多个批次提供一致和可靠的过程控制。
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